报告行业投资评级 - 强于大市 [1] 报告的核心观点 - 集成电路制造板块持续强势领涨电子行业，AI Glasses市场持续爆发，建议关注AI Glasses上游产业链相关供应商投资机会 [1][2] 根据相关目录分别进行总结 1.1 AI Glasses概述 - AI Glasses是集成人工智能技术的智能穿戴设备，通过传感器等实现环境感知等功能，为用户提供增强现实体验等服务 [8] - AI与AR、VR、XR设备形态和功能有差异，AI设备追求轻量化、低功耗设计以适配日常场景 [11] 1.2 全球AI Glasses市场现状 - 2024年全球AI Glasses销量234万副（同比+588.2%），预计2030年达9000万副（CAGR 83.7%），Ray Ban Meta占据全球超九成市场份额 [13] - 全球AI Glasses市场形成国际品牌与国产厂商差异化竞争格局，国际阵营中Meta构建社交生态闭环，国产厂商聚焦本地化场景突围 [16] 1.3 小米AI Glasses性能参数对比分析 - 硬件层面，小米AI Glasses比RayBan产品轻20%，在算力效率、续航能力及场景适应性上形成配置优势 [20] - AI功能端，小米通过本地化AI能力在办公、生活场景构建差异化壁垒，Ray Ban Stories退居基础影像市场，Meta依托大模型实现多模态交互 [20] 2.1 谷歌DeepMind发布AlphaGenome模型 - 2025年6月26日，谷歌DeepMind推出新一代AI模型AlphaGenome，可用于多种基因调控场景，计划向科研界开放 [24] - 该模型能处理长DNA序列，预测分子属性，对遗传变异效应进行量化评分，训练数据源自多个大型公共联盟 [24] 2.2 中国发布龙芯3C6000国产通用处理器 - 2025年6月26日，中国发布龙芯3C6000国产通用处理器，采用自主设计的指令系统，可满足多场景高性能计算需求 [26] - 龙芯3C6000已获二级认证，确保关键领域应用安全，同步发布的龙芯2K3000/3B6000处理器面向智能终端与工业控制领域 [26] 2.3 HDMI发布HDMI2.2标准 - 2025年6月26日，HDMI论坛发布HDMI 2.2标准最终规格，为高分辨率、高刷新率影音体验奠定基础 [28] - 该标准实现带宽与分辨率支持的双重突破，兼容多种格式，具备向后兼容性，新增延迟指示协议消除声画错位问题 [28][29] 2.4 ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机 - 2025年6月29日，ASML着手研发新一代Hyper NA EUV先进光刻机，目标是将数值孔径提升至0.7或更高 [30] - ASML现有光刻机存在效率和良率问题，新一代光刻机将满足2035年后先进制程需求 [30] 3.1 SW一级行业涨跌幅一览 - 本周SW电子行业指数(+4.61%)，涨跌幅排名7/31位，沪深300指数(+1.95%) [2][31] - SW一级行业指数涨幅前五为计算机、国防军工等，跌幅后五为石油石化、食品饮料等 [2] 3.2 SW电子三级行业市场表现 - 本周SW电子三级行业指数涨跌幅前三为集成电路封测、其他电子Ⅲ、印制电路板，涨跌幅后三为半导体设备、面板、品牌消费电子 [2] 3.3 SW电子行业个股情况 - 本周SW电子行业涨跌幅排名前十的股票为好上好、唯特偶等，涨跌幅排名后十的股票为联建光电、杰美特等 [38] 3.4 科技行业海外市场表现 - 费城半导体指数本周涨6.40%，恒生科技指数本周涨4.06% [2][43][45] - 中国台湾电子指数各板块本周涨跌幅有差异，电子零组件、其他电子涨幅较大，电子通路跌幅为1.16% [46]

纪要涉及的行业和公司 - **行业**：光刻机行业 - **公司**：阿斯麦（ASML）、佳能、尼康、上海微电子、长春光机所、成都光电所、茂莱光学、波长光电、福晶科技、福光股份、腾景科技、永新光学、奥普光电、紫科科技、必创科技、慈星股份、磁谷科技、崇越科技、富创精密、新来科技、汇成真空、九旸电子、科益虹源 [14][15][19][23] 纪要提到的核心观点和论据 - **中美博弈影响及产业进展**：美国对相关厂商限制增强，长臂管辖使国内厂商设备采购受影响，产业链和客户对国产设备态度转变，今年光刻机产业进入量产阶段，产线实现部分国产替代 [2] - **市场格局与需求预测**：2024 年 ASML 主导市场，生产 418 台，中国大陆 DUV 采购金额占比 36%，i 线部分国产替代有望，年需求约 200 台；预计到 2030 年，先进逻辑和存储芯片对 EUV/DUV 曝光次数增加，推动新型光刻设备需求和资本开支 [3][14][17] - **技术路径与关键系统**：DUV 光刻机多重曝光逼近 7 纳米极限，EUV 是更小线宽必要选择且进口受限，国产化突破重要；光刻机子系统要求随产品先进化更严苛，EUV 对计算任务和软件算法要求高 [4] - **核心部件研发进展**：光学系统是光刻机核心，国内公司在物镜及照明系统布局多，研发聚焦光源波长和数值孔径 [5] - **EUV 光刻技术与光源演进**：EUV 光刻波长从 i 线缩短，采用 LPP 光源，阿斯麦双脉冲激发方案提升功率和产能 [8][9] - **国内 EUV 研发进展**：长春理工大学牵头 EUV 光刻投影曝光装置项目，科益虹源专注 KrF 和 RF 光刻机准分子激光器制造，高精密设备需定制化开发 [10] - **国产替代挑战与机会**：国产替代技术投入大、周期长，但 i 线和 KrF 设备产业化将转化成果，国产零部件厂商有维保市场机会 [18] - **投资优势与市场情绪影响**：能做整体物镜系统公司参与价值高，主业扎实、现金流稳定、能快速转化收入的机械部件公司估值有优势；4 月市场热度下降，关注量产设备订单和研发进展，回调提供投资机会 [25][26] 其他重要但可能被忽略的内容 - **照明单元运作**：照明单元各模块调整激光杂质与角度，实现清晰纯净均匀激光束，高精密运动工作台提高效率，阿斯麦双工作台技术有新要求 [6] - **工作台挑战**：工作台需兼顾测量与曝光功能，面临节拍稳定匹配、精度保证、微振动控制、高精密运动和同步协调问题，还需考虑环境稳定性 [7] - **物镜系统构成**：物镜系统是 EUV 光刻昂贵复杂系统，有多种结构形式，可分光学、机械、控制三个分系统 [11] - **双工作台技术应用差异**：非 EUV 环境用气浮式运动台，EUV 环境用磁浮平面电机，磁悬浮背景团队适合研发，华卓精科涉及相关设备技术 [12] - **光刻机主要构成**：包括载物台、运动控制系统、浮动支撑系统、真空吸附系统和传感器反馈系统，各系统有不同要求 [13] - **产业链关键设备**：产业链有关键设备如镀膜、高精密度加工设备等，价值量不如物镜或光学系统订单，工作台相关先进产品处于预测或研发阶段 [24]