光刻机核心技术与市场分析 - 光刻工艺直接决定芯片制造的细微化水平，关键指标包括分辨率、焦深、套刻精度和产率，其中分辨率提升方式包括缩短曝光波长、增大数值孔径、降低工艺因子以及多重曝光 [2] - 2025年全球光刻机市场规模预计达293.7亿美元，其中照明+物镜、光源、工件台市场规模分别为47.8亿、28.6亿、21.5亿美元 [2] - EUV光刻机2025年市场规模预计96亿美元，其照明+物镜、光源、工件台市场规模分别为15.5亿、12.6亿、7.0亿美元 [2] 光刻机核心部件技术特征 - 投影光学光刻机主要部件包括光源、照明、物镜、工件台等，EUV光刻机特征体现在材料选择、多层反射膜结构、反射式投影系统等方面 [2] - 光源技术从汞灯发展到准分子激光器，EUV采用激光等离子体光源(LPP)，需同时实现高脉冲能量和窄线宽 [55][56] - 投影物镜分为全折射式、折反式和全反射式，EUV因材料吸收问题必须采用全反射式结构 [62] - 工件台技术从机械导轨发展到气悬浮和磁悬浮，双工件台设计可同时进行测量与曝光提升效率 [69][70] ASML产业协作模式 - ASML采用全球供应链协作模式，关键供应商包括Zeiss(光学系统)、Cymer(光源)、TRUMPF(EUV激光器)等 [3] - 开放合作是光刻机发展主旋律，EUV光刻机涉及5000家供应商提供10万个零部件 [42] - 技术变革与产业协同是ASML成功关键，通过收购Cymer等公司整合核心技术 [3] 光刻机技术发展趋势 - 分辨率提升路径从缩短波长(436nm→13.5nm)转向浸没式(NA从0.2→1.35)和多重曝光技术 [15][26] - EUV光刻机需解决光源功率(250W)、多层膜反射率(6.5%)、真空环境磁悬浮工件台等技术难点 [57][58][90] - 无掩膜直写光刻技术在IC封装、平板显示等领域拓展应用，包括激光直写和电子束直写 [93][96] 国产化发展现状 - 国内光刻技术与全球先进水平存在差距，大基金三期将重点扶持光源、照明、物镜等核心部件 [3] - 光刻机镜片加工涉及超精密抛光(亚纳米精度)、多层膜沉积(磁控溅射)等高难度工艺 [100][103] - 2023年ASML EUV光刻机出货51台收入91亿欧元，ArFi光刻机出货125台收入90亿欧元 [101]

权益分派方案 - 公司2024年度权益分派方案为每10股派发现金红利0.50元（含税），不送红股，不以公积金转增股本 [2] - 分配基数以总股本771,497,994股扣除回购股份3,978,052股后的767,519,942股为基准，预计分配现金股利38,375,997.10元 [2] - 分配实施后未分配利润余额为530,063,412.23元，将结转至下一年度 [2] 权益分派实施细节 - 股权登记日为2025年6月3日，除权除息日为2025年6月4日 [7] - 分派对象为截至股权登记日收市后登记在册的全体股东 [8] - 现金红利将于2025年6月4日通过股东托管证券公司划入资金账户 [9] 除权除息价格计算 - 每股现金红利按总股本折算为0.0497421元/股（不四舍五入） [10] - 除权除息价格=股权登记日收盘价－0.0497421元/股 [10] 子公司工商变更 - 控股子公司深圳市海洋王绿色照明技术有限公司完成工商变更，涉及经理、董事、股东信息及法定代表人 [14] - 变更后注册资本为5000万人民币，法定代表人变更为陈胜，经营范围涵盖照明技术开发、销售及系统集成等 [14]