硅电容
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硅电容专题报告:MLCC进阶方案,渗透率有望迅速提升
国信证券· 2026-06-15 23:26
2026年06月15日 证券研究报告 | 请务必阅读正文之后的免责声明及其项下所有内容 行业研究 · 行业快评 计算机 · 人工智能 投资评级:优于大市 证券分析师:熊莉 021-61761067 xiongli1@guosen.com.cn S0980519030002 摘要 请务必阅读正文之后的免责声明及其项下所有内容 Ø MLCC潜在替代方案,渗透率有望迅速提升。随着GPU、HBM和AI加速器功耗快速攀升,传统MLCC与PCB级供电体系已经难以满足超 高频、低电压、大电流场景下的稳定供电需求。相对而言,硅电容具有密度高,低ESL等特点,可直接嵌入先进封装、光模块、硅中介 层(Interposer)与GPU/HBM周边,实现更短的供电回路与更低的电压跌落,从而满足AI芯片不断提升的瞬态供电需求。 Ø 与传统的多层陶瓷电容器(MLCC)相比,它主要有四大优势。1)容值密度高:1mm厚度的硅电容即可等效80层陶瓷层的有效电容面 积(约3-4mm);2)温度稳定性佳:125-150°C基本没有温漂现象;3)老化较慢:老化速率为MLCC的1/10;4)尺寸较小:最低 可以低至50微米。硅电容目前正处于从技术可行向 ...