市场整体表现 - 10月27日A股市场震荡上涨，沪指盘中突破3999点创年内新高 [1] - 沪深两市成交额达2.36万亿元，较上一交易日放量3650亿元 [1] - 市场热点轮番活跃，存储芯片、CPO、可控核聚变等板块涨幅居前，游戏、风电设备等板块跌幅居前 [1] 存储芯片行业 - 存储芯片概念股全天走强，存储器指数上涨185.94点，涨幅达5.23% [1][2] - 多只个股表现强劲，江波龙股价上涨19.82%，德明利、兆易创新、中电港、大为股份等多股涨停 [1][2] - AI应用爆发是主要驱动力，导致对AI服务器、数据中心用的高性能存储芯片需求激增，推动存储市场价格上行 [3] - 投资层面建议重点关注景气度持续向上的存储产业链，包括存储模组、利基存储、存储配套设备材料等环节 [2][3] 半导体设备与光刻技术 - 半导体设备指数上涨235.87点，涨幅3.32%，光刻机、半导体设备概念股走强 [1][4] - 精智达股价上涨15.45%，拓荆科技上涨10.31%，金海通、富创精密、中微公司等均有显著涨幅 [4] - 我国首个EUV光刻胶标准《极紫外光刻胶测试方法》立项公示，将填补国内技术标准空白 [4][5] - 北京大学团队通过冷冻电子断层扫描技术解析光刻胶分子微观结构，开发出可减少光刻缺陷的产业化方案 [5] - 光刻胶作为半导体等行业基础材料，其技术进步可促进相关产业链协同发展 [5] - 半导体材料板块处于需求扩张与国产替代共振阶段，预计2025年中国大陆光刻胶市场规模同比增长6.8%至179亿元 [5] 科技行业与市场展望 - 机构认为A股"慢牛"行情将延续，"大科技"仍是中长期主线 [6] - 支持市场上行的关键逻辑包括：中国涌现具有国际竞争力的优质企业、上市公司盈利有望系统性回升、国内利率处于历史低位权益资产性价比突出、政策支持资本市场高质量发展 [6] - 全球科技AI行情迎来共振窗口期，科技巨头AI资本开支指引成为焦点 [6]

市场整体表现 - A股市场于10月27日震荡上涨，沪指盘中突破3999点，创年内新高，沪深两市成交额达2.36万亿元，较上一交易日放量3650亿元 [1] - 主要指数普遍上涨，上证指数收于3996.94点，上涨1.18%，深证成指上涨1.51%，创业板指表现突出，上涨1.98% [2] - 万得全A指数上涨1.19%，市场呈现普涨格局 [2] 存储芯片行业 - 存储芯片概念股全天走强，存储器指数大幅上涨5.23% [3][7] - 多只个股表现强劲，德明利实现2连板并创新高，江波龙、香农芯创等亦创下新高 [3][7] - 机构观点认为，AI应用端效果显现是主要驱动力，AI服务器及数据中心对高性能存储芯片需求激增，推动存储市场价格上行 [7][8] - 投资层面建议重点关注景气度持续向上的存储产业链，包括存储模组、利基存储及存储配套设备材料等环节 [7][8] 半导体设备与光刻胶行业 - 光刻机及半导体设备概念股走强，半导体设备指数上涨3.32% [9][12] - 消息面上，我国首个EUV光刻胶标准《极紫外光刻胶测试方法》已立项公示，旨在填补国内该领域技术标准空白 [12][13] - 北京大学研究团队在光刻胶分子结构研究上取得突破，相关成果发表于《自然·通讯》，有望指导开发减少光刻缺陷的产业化方案 [13] - 机构指出，半导体材料板块处于需求扩张与国产替代共振阶段，光刻胶等核心材料受益于晶圆投片量增加及国产化率提升政策，预计2025年中国大陆光刻胶市场规模将达179亿元，同比增长6.8% [13] 算力硬件与核电板块 - 算力硬件概念股延续强势，汇绿生态实现6天4板并创新高，新易盛、中际旭创盘中均创历史新高 [3] - 核电板块表现活跃，东方钽业实现3天2板，安泰科技等多股涨停 [3] 机构市场展望 - 机构对A股市场后续表现持乐观态度，认为“慢牛”行情将延续，关键支撑逻辑包括新一轮科技革命中涌现具有国际竞争力的优质企业、上市公司盈利处于筑底尾声有望系统性回升、国内利率处于历史低位凸显权益资产性价比、以及国家出台支持资本市场高质量发展的一系列政策 [14][15][16] - 结构上，“大科技”仍被视为中长期主线，全球科技AI行情预计迎来共振窗口期 [16]

标准制定概况 - 我国首个极紫外（EUV）光刻胶测试规范《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》于2025年10月23日启动立项公示，公示期持续至11月22日 [2][3] - 该标准由上海大学联合张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司等业内重点机构与企业共同起草，项目周期为16个月 [2][3] - 此项标准填补了国内在先进光刻材料测试体系方面的空白，旨在建立统一、科学的性能评估框架 [3] EUV光刻胶行业背景与市场格局 - EUV光刻胶工作波长为13.5nm，是7nm及以下制程集成电路制造的关键材料，对实现先进逻辑芯片和高端存储芯片生产不可或缺 [4][7] - 全球EUV光刻胶市场高度集中，日本企业JSR、东京应化等占据超过95%的市场份额，国产化率为零 [4][7] - 随着全球芯片制造向3nm、2nm节点推进，EUV光刻已成为先进制程不可或缺的量产手段 [7] 标准制定的意义与影响 - 标准落地将提升国产光刻胶在晶圆制造环节的验证效率，促进测试数据互认，降低产线导入的技术风险 [4] - 标准将带动本土测试装备的技术升级与自主配套，有助于控制研发成本 [4] - 此举标志着在突破EUV光刻关键材料“卡脖子”问题上迈出制度化一步，有助于加速半导体材料从依赖进口向自主供给的战略转型 [5] 国内科研进展 - 光刻胶已被列入《“十四五”原材料工业发展规划》重点突破的新材料目录 [8] - 北京大学团队利用冷冻电子断层扫描技术揭示了光刻胶分子的三维微观结构，为优化材料设计提供新路径 [9] - 南开大学团队在氧化钛团簇材料方面实现突破，制备出分辨率达12.9纳米的负性图案 [9] - 华东理工大学团队开发出新型非晶态沸石咪唑酯骨架薄膜制备方法，并完成超越EUV波段的光刻验证 [9] - 清华大学团队开发出基于聚碲氧烷的新型光刻体系，展现出良好的EUV响应性能 [9]

政策核心内容 - 中国商务部对含中国矿物质成分的境外物项及相关技术实施出口管制 [1] - 管制采用“长臂管辖”原则，只要产品含有0.1%及以上中国重矿物质成分或使用中国矿物质技术，出口都需中方审批 [3] - 审批标准严格区分民用与军用，向军事用户或用于大规模杀伤性武器研发的出口申请将直接被拒 [3] 中国在矿物质领域的主导地位 - 中国矿物质储量占全球总量的37%，精炼分离环节占比超过70% [5] - 用于光刻机的高纯度重矿物质，中国掌控着全球87%的冶炼产能 [5] - 中国是全球唯一能生产纯度99.9999%钆镓石榴石晶体（光刻机关键热沉材料）的国家 [11] - 中国商务部同步出台《矿物质加工技术出口限制清单》，涵盖串级萃取、镨钕分离等43项核心技术 [11] 对全球光刻机产业的直接影响 - ASML光刻机磁体库存仅能维持8-12周生产，而重新设计生产线至少需18个月 [5] - 若矿物质供应中断持续，ASML的EUV光刻机产能可能下降30% [5] - 每台EUV光刻机的交付周期将从24个月延长至36个月 [7] - 中国对铒相关物项的出口管制，直接导致全球EUV光刻机镜面镀膜产能下降60% [11] 对全球芯片制造商的冲击 - 台积电、三星和英特尔等公司的2纳米、1.4纳米等先进制程的量产时间表将受EUV光刻机交付延迟影响 [7] - 新产线的安装调试周期将被拉长，直接冲击数百亿美元的工厂建设计划 [7] - 光刻机每停机一分钟，客户损失可能达数千欧元 [7] 对国防工业的影响 - 洛马公司的F-35战机因无法获得钕铁硼磁体，其AN/APG-81雷达的灵敏度下降23% [9] - 波音的MQ-25无人加油机因矿物质永磁电机断供，项目面临夭折风险 [9] - 美国国防部报告承认，现有武器库存中78%的制导系统面临矿物质危机 [9] 替代方案的挑战与失败 - 有供应商尝试用普通材料替代矿物质磁体，结果成本暴涨40%，性能衰减30% [9] - 转向东南亚采购的企业发现，当地产能不足全球5%，提纯技术与中国存在代差 [9] - 日本佳能的自研“纳米压印光刻”技术因无法获得高纯度铒化合物，进度落后ASML两年 [9] - 美国蓝线公司试图在得州重建矿物质提纯线，但因无法获得中国授权的工艺参数，项目已搁置18个月 [11] - 日本信越化学试图用镓替代矿物质中的镝元素，但实验显示其“镓基磁体”在3000小时工作后性能衰减达47% [17] - 东芝的光刻机冷却系统改用液态金属，因热导率不足导致芯片良率下降12% [17] 中国半导体产业的应对策略 - 新凯来公司提出“非光刻补偿”战略，通过优化DUV光刻机工艺实现接近EUV的制程精度 [11] - 通过“武夷山”刻蚀机、“阿里山”沉积设备和“天门山”量测仪的协同作业，将DUV复杂流程标准化 [13] - 与中芯国际合作试产的5纳米逻辑芯片良率达到85%，接近台积电的EUV工艺水平 [13] - 在材料环节，无锡启动的EUV光刻胶研发平台直接对标国际一流水准，FKRF等关键光刻胶的国产化率突破30% [13] - 显影液、电子特气等“辅助材料”已实现全链条自主可控 [13] 全球供应链的重构趋势 - 欧盟计划在2030年前实现矿物质自给率80%，美国国防部投资900亿美元推动本土矿物质产业链建设 [15] - 供应链从“效率优先”转向“安全优先”，ASML的全球化生产模式面临重构压力 [15] - 美国投入23亿美元重启爱达荷州矿物质矿，但其重矿物质储量仅够支撑3年，分离成本是中国的4倍 [15] - 五角大楼的“矿物质应急计划”转向格陵兰岛，却因当地环保组织抗议陷入停滞 [15] 中国的监管机制升级 - 中国通过《两用物项出口管制条例》建立“成分溯源 最终用途”双重审查机制 [17] - 任何使用中国矿物质的境外产品，必须提供从矿山到成品的全链条数据 [17] - 这种“穿透式监管”使ASML的供应链透明度首次低于中国本土企业 [17]

资源与材料基础 - 商务部对含0.1%中国重稀土成分的产品出口实施审批，为产业划定资源话语权边界[2] - 全球90%的高标准稀土精炼产能集中在中国，ASML的EUV光刻机单台稀土用量超50公斤[2] - 无锡启动EUV光刻胶研发平台，打破国外垄断，关键光刻胶国产化率突破30%[4] - 显影液、电子特气等曾依赖进口的辅助材料已实现全链条自主可控[4] 制造工艺突破 - 新凯来采用“非光刻补偿”战略，通过优化DUV光刻机工艺弥补与EUV设备的精度差距[7] - 该工艺路线难度极高，制造关键电路层时需在光刻、刻蚀、沉积间反复循环数十甚至上百次[7] - “名山大川”系列设备（如“武夷山”刻蚀机、“阿里山”沉积设备）为复杂工艺提供了全流程支撑[9] - 与中芯国际合作试产的5nm逻辑芯片良率达到85%，接近台积电EUV工艺水平[9] 设计与测量工具 - 新凯来旗下启云方推出国产EDA软件，运算效率较国际主流标杆提升30%，硬件开发周期缩短40%[11] - EDA软件实现了与国产操作系统、数据库的无缝兼容，解决了设计环节的“有无”问题[11] - 华为应用实践显示，在处理4万管脚级超复杂电路板时，一次设计成功率提升30%[13] - 同期推出90GHz超高速实时示波器，性能较此前国产同类产品提升5倍，填补了测量设备空白[13] 产业生态构建 - 中国半导体正构建类似“雨林”的完整生态，各环节相互支撑，以生态重构定义新规则[15] - 资源、材料、工艺、设计等多维度布局完成，形成不依赖外部供应链的完整闭环[13][15] - 通过“流程复杂度”换取“技术自主性”，为先进制程落地找到不依赖外部设备的可行方案[9][15]

点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击"❤"和" "并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 正文 引言 从石器时代的打磨，到青铜与铁器的熔铸，再到硅基芯片的刻蚀，人类文明的每一次跨越，都始于一种 革命性材料 的诞生。今天，我们正站在一场新文 明浪潮的起点—— 人工智能 正在重塑社会生产范式， 航空航天 将人类的足迹迈向深空与深海， 能源革命 关乎文明的永续发展。然而， 驱动这一切伟大 变革的底层基石与核心命脉，正是 新材料 。 它是AI算力背后，承载万亿晶体管的先进半导体衬底；是航天器刺破苍穹，抵御数千度烈焰的超高温防护涂层；是新能源体系中，构筑高能量密度电池 与高效氢能转换的关键物质。 材料，已从幕后走向台前，从支撑变为引领，成为大国竞争中决定成败的"必争之地"与"硬核实力" 。 在此历史性交汇点，中国新材料产业已驶入发展的快车道，规模突破八万亿，集群效应凸显。本报告将 全景式扫描 先进基础材料、关键战略材料、前沿 新材料 等十一大核心领域 ，深入剖析性能突破与工艺壁垒等核心挑战，并擘画以 "关键战略材料自主保障" 为首的八大重点发展任务 。我们旨在 厘清现 状、直面问题、指明方向，为锻造中国面向未 ...

当全球芯片竞赛迈入1nm前夜，日本半导体"隐形冠军"Tekscend Photomask携1566亿日元巨额开启IPO， 一举成为2025年东证最受瞩目的资本盛宴。 从凸版印刷事业部蜕变为全球前三光掩模龙头，它不仅掌控2nm及以下先进制程的"底片"命脉，更在 日、美、欧三地布下产能铁三角，绑定顶级客户。Tekscend PhotomaskIPO成为今年日本资本市场的亮 点之一，募资金额达到1566亿日元，位居日本今年所有IPO规模第二。此次成功上市不仅标志着公司在 全球半导体产业的进一步发展，也为日本IPO市场注入了新动力。 IPO落地 日本今年第二大IPO要来了。 日本半导体材料制造商Tekscend Photomask于周三确定的首次公开募股发行价处于定价区间上限，此次 上市规模在日本今年的IPO中排名第二。 据资料显示，该公司股票的发行指导价为每股2900至3000日元，最终发行价定为每股3000日元。 Tekscend此次IPO募资1566亿日元，规模仅次于今年3月JX先进金属公司的IPO。该交易吸引了卡塔尔投 资局等机构投资者的关注，知情人士透露，投资者对该交易的关注度远超其规模本身。 Teksce ...

行业地位与规模 - 无锡集成电路产业规模居全国第二 产值达2512亿元 产业链企业数量超600家 [4] - 2025年全球半导体市场规模预计提升至7189亿美元 同比增长13.2% [6] - 2025集成电路创新发展大会参展商数量超1130家 规模创新高 [1][10] 产业发展与增长 - 2024年上半年无锡集成电路产业营收同比增长12% 延续稳中向好势头 [4] - 产业聚焦芯片设计高端化转型与先进封装升级 优化产业结构 [6] - 大会签约57个项目 其中55项为产业项目 总投资177.21亿元 [14] 技术突破与创新 - 无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线填补国内空白 产品涵盖极紫外EUV及深紫外DUV光刻胶 用于亚10纳米先进制程芯片 [9] - 中国开放指令生态联盟江苏省中心落地无锡 共建RISC-V IP资源池与Chiplet技术"芯粒库" [9] - 长三角国家技术创新中心车规级芯片中试服务平台等重磅项目揭牌 [6] 产业链生态建设 - 大会采用"1+5"架构 覆盖人工智能 汽车电子 先进封装 高端装备及关键材料领域 [5] - 半导体设备与核心部件展重点展示光刻 薄膜 刻蚀等晶圆制造设备及封测设备 [10] - 无锡市集成电路人才培养联盟揭牌 集聚东南大学等高校推动产教融合 [14] 企业参与与合作 - 华虹半导体 中微公司 摩尔线程等企业高管围绕集成电路制造与人工智能开展主题演讲 [5] - 产业链供需对接会吸引长电科技 华虹半导体 百度智能云等重点企业参与 [10] - 金融支持项目包括新设金融租赁公司1家 总授信达1000亿元 [14]

技术突破 - 清华大学开发出理想极紫外（EUV）光刻胶材料，解决ASML都头疼的金属胶缺陷问题 [1] - 中国光刻技术从"单点突破"转向"系统集成"，在成熟制程领域构建自主产业链雏形 [1] - 高端领域需持续攻克效率与核心部件瓶颈，技术自主化非一蹴而就但每一步突破都在重塑全球芯片竞争格局 [1] 行业背景 - 由于美国的封锁和制裁，中国的芯片供应让国内众多企业焦虑，中国光刻机一直是关注焦点 [1] - 7月以来国内众多媒体纷纷报道中国光刻技术取得重大进展 [1] - 国产光刻机新秀将亮相，中国光刻机研发获得重大进展 [1]

核心观点 - 半导体行业面临结构性悖论：人工智能需求强劲且晶圆厂投资持续增加，但晶圆出货量停滞不前，主要原因是晶圆厂周期时间延长和HBM经济阈值未达临界点 [2][4][6] - 市场动态需通过结构性假设解释，而非传统需求疲软或订单延迟理论，晶圆厂运营需求模式已发生根本变化 [3] - 晶圆需求增长需满足特定条件（如HBM收入占比达25%），当前处于战略潜伏期，未来可能呈现非线性爆发 [6][8][14] 晶圆厂周期时间与产能瓶颈 - 晶圆厂周期时间（晶圆完成全流程平均时间）自2020年以来复合年增长率达14.8%，导致产能结构性减速 [4] - 工艺复杂性提升、设备密度增加及质量控制严格化，使每片晶圆成本上升但生产速度下降 [4] - 每片晶圆面积的设备支出自2020年飙升150%以上，但投资未带来更高产量，反而延长加工时间 [4] HBM经济阈值与市场拐点 - HBM晶圆每比特占用面积是标准DRAM的三倍以上，潜在晶圆需求巨大，但目前仅占内存总收入的16% [6] - 当HBM收入占比达25%时，交易比率升至1.5，达到结构性盈亏平衡点，内存制造商将获激励扩大晶圆投入 [6] - 客户在HBM占比达阈值后更愿支付溢价，推动晶圆需求非线性增长 [6] 定量模拟与需求框架 - 定量模拟框架显示：在当前条件（HBM收入份额16%、年比特率增长15%、晶圆厂利用率95%、周期时间增长14.8%）下，晶圆投入需年增23.9%才能满足需求 [8] - 无晶圆厂能实现此扩张规模，市场受条件响应体系制约，需关键阈值触发启动 [8] - 传统预测方法不适用，需关注变量间相互作用（HBM渗透率、DRAM比特率增长、利用率与周期时间） [8] 技术与运营限制 - HBM扩张缓慢受技术限制影响，包括低良率、客户认证延迟及工艺稳定性挑战 [10] - CoWoS封装后端瓶颈导致半成品晶圆积压，限制上游晶圆投入 [10] - 晶圆厂优先通过工艺转换（非新建工厂）提效，叠加宏观经济不确定性及地缘政治风险，抑制资本执行 [10] 供应链需求响应 - 供应链呈现三层需求响应：工艺关键材料（如EUV光刻胶、TSV化学品）可能在晶圆投入增加前出现供应限制 [12] - 延长周期时间直接增加每片晶圆的材料消耗，导致潜在早期瓶颈 [12][18] 行业战略行动建议 - 晶圆供应商需围绕25% HBM阈值制定情景化产能计划 [14] - 设备制造商应预测工艺转型驱动的需求，而非仅关注当前晶圆产量 [14] - 材料供应商需为周期时间延长导致的消耗增加和潜在瓶颈做好准备 [14][18] - 当前停滞为战略准备期，非结构性衰退，条件成熟后晶圆需求将非线性反应 [14]