英特尔Intel 18A制程技术进展 - 公司详细披露了其Intel 18A（1.8纳米）先进制程的技术亮点与最新进展，旨在重夺工艺制程领先地位 [1] - 该制程依托RibbonFET（全环绕栅极晶体管）与PowerVia（背面供电）两项关键技术 [1] - Intel 18A将被用于下一代AI PC平台Panther Lake，该平台已在最新晶圆厂正式投产 [1] Intel 18A制程性能优势 - 实测数据显示，较上一代产品在相同功耗下性能提升超15%，相同性能下功耗降低25%以上，晶体管密度提升30% [3] - 基于18A制程的Panther Lake处理器多核性能在同功耗下提升50%，图形性能提升超过40%，整体AI算力高达180 TOPS [4] - PowerVia背面供电技术将供电电路置于晶体管层背面，解决了芯片内部拥堵问题，降低了电压损耗 [2] 全球先进制程竞争格局 - 全球先进制程竞争为台积电、三星和英特尔三足鼎立，2025年是2纳米及等效制程竞争的决胜之年 [7] - 台积电N2工艺良率已突破60%—65%，计划2025年下半年大规模量产 [7] - 三星3纳米GAA工艺良率在20%—40%之间徘徊，使其在竞争中处于相对被动位置 [7] - 英特尔18A在能效指标上存在反超台积电的窗口期，因其率先导入PowerVia技术，目标在2025年年底实现大规模量产 [8] 全场景AI生态构建 - 公司提出以18A制程为技术底座，构建覆盖端侧、数据中心、边缘的全栈AI生态 [9] - Panther Lake平台集成XPU架构，支持800亿参数MoE模型本地运行，首次响应时间控制在30秒内，token吞吐率提升至原先的2.7倍 [9] - 与中国本土软件生态深度合作，如图像搜索重排序模型准确率从85%提升至96% [9] - 全新至强6系列处理器使AI推理性能提升72%，在数据库场景性能提升35% [10] 中国市场战略与合作 - 公司强调在中国市场持续加强从客户端到数据中心的合作，共建开放生态 [1][10] - 已与1.5万家中国企业合作，面对迈向万亿规模的中国PC和云计算市场，重申“开放”与“坚韧”的长期承诺 [10]

法律诉讼与调查 - 台积电向中国台湾知识产权及商业法院对前资深副总经理罗唯仁提起诉讼，指控其向英特尔泄露商业机密[2] - 中国台湾地区检方搜查罗唯仁位于台北市和新竹县的两处住所，查扣电脑、U盘等证物[2] - 法院批准检方申请，查扣罗唯仁的股票和不动产[2] 涉事方回应与背景 - 英特尔否认台积电的指控，认为指控没有依据[2] - 罗唯仁在台积电工作21年，协助推动5纳米、3纳米及2纳米制程量产，于今年7月退休，10月重返曾工作18年的英特尔[2] - 截至发稿，英特尔和罗唯仁未就搜查事件置评[2]

公司技术进展 - 英特尔公司取得一项名为"利用具有集成熔丝的模块化衬底设计的微电子器件"的专利 [1] - 专利授权公告号为CN109216318B [1] - 专利的申请日期为2018年5月 [1]

公司法律纠纷 - 台积电在中国台湾智慧财产及商业法院对其前资深副总裁罗唯仁提起诉讼，指控其可能将公司商业机密与机密信息使用、泄露、披露或转移给英特尔[1][2] - 英特尔否认台积电的指控，表示基于目前掌握的信息，没有理由相信指控有事实依据，并强调公司有严格政策严禁使用第三方商业机密或知识产权[1] - 英特尔首席执行官陈立武驳斥有关不当行为的猜测，称其为毫无根据的市场谣言和揣测，并强调公司尊重所有芯片制造知识产权[2] 关键人物背景 - 罗唯仁在台积电工作21年后于今年10月退休，并正式加入英特尔，此前他曾在英特尔工作18年[1][2] - 罗唯仁在台积电期间曾协助推动5纳米、3纳米和2纳米及以下尖端制程芯片的大规模量产，并负责公司的制程策略及核心技术开发[1][2] - 英特尔欢迎罗唯仁回归，称其在半导体行业因诚信、领导力及技术专长而广受尊敬，并认为人才在企业间流动是行业常见且健康的一部分[1] 行业竞争格局 - 台积电总市值超过1.15万亿美元，基于美股ADR交易价格的市场总市值高达1.5万亿美元，是全球芯片代工超级龙头，远超英特尔[2] - 台积电是苹果、英伟达、AMD、高通、博通等美国大型芯片公司最先进芯片的唯一合同代工厂商[3] - 英特尔与台积电关系紧张，英特尔既是台积电的客户，又是其重大竞争对手[3] 公司战略与技术发展 - 英特尔战略已转向聚焦于Intel Foundry，即系统性芯片代工，直接对标台积电，目标是成为比肩台积电的芯片代工巨头[4][5] - 英特尔公开激进的技术路线图“5节点4年”，计划从Intel 7推进到Intel 3、20A、18A，其中20A即2纳米制程，18A即1.8纳米制程[4] - 英特尔购置全球第一台High-NA EUV光刻机，力争打造领先于台积电和三星的2纳米及以下最先进芯片制造技术[4] - 18A与更先进的16A技术是英特尔能否翻身的关键节点，其性能/能效需对标或超越台积电与三星，才有机会为英伟达、AMD等超级大客户代工AI加速器等先进制程芯片[5]

核心法律事件 - 台积电向智能财产及商业法院申请“定暂时状态处分”，请求禁止其前资深副总经理罗唯仁转任英特尔执行副总裁 [2] - 法院已受理案件并由法官王碧莹负责审理，相关程序将尽快展开 [2] - 台积电以保护营业秘密为由，要求法院在案情厘清前暂不公开相关信息 [2] - 法律依据主要来自双方签署的聘雇合约、竞业禁止条款及相关法律规定 [2] 涉及的关键技术与风险 - 罗唯仁在退休前曾指示下属整理涵盖台积电2纳米、A16（1.6纳米）、A14（1.4纳米）等多项先进制程的技术简报 [3] - 其行为疑似携出机密文件离职，加剧公司对技术外流的担忧 [3] - 台积电主张罗唯仁若进入竞争对手英特尔任职，极有可能导致核心技术外泄，构成重大商业风险 [2] 当事人背景与调查进展 - 罗唯仁于2004年加入台积电，拥有美国加州大学柏克莱分校固态物理与表面化学博士学位，服务公司21年 [3] - 其长期负责关键技术研发，个人名下拥有超过1500项专利，是推动公司突破10纳米制程技术瓶颈的重要人物 [3] - 主导的“夜鹰计划”建立了全天候不间断的研发运作模式，为台积电成功跨越关键制程节点提供支撑 [3] - 经济部门负责人龚明鑫表示，罗唯仁的行为已涉及安全法与营业秘密法，高检署已主动介入调查安全相关部分 [2] - 工研院已启动撤销其“工研院院士”资格的程序 [2]

诉讼核心事件 - 台积电正式向中国台湾智慧财产及商业法院提起诉讼，指控前资深副总经理罗唯仁违反竞业禁止协议，并高度可能使用或泄露台积电2nm及更先进制程的机密信息予英特尔[3] - 诉讼依据是罗唯仁签署的聘用合约书、竞业禁止同意书及营业秘密法等规定，台积电认为有必要采取法律行动包括违约赔偿[3] - 英特尔CEO陈立武表示完全支持罗唯仁，并强调台积电的所有指控毫无根据，称这只是谣言和猜测[2] 涉事人员背景 - 罗唯仁曾在英特尔任职18年，负责晶圆制程技术开发，离开英特尔后加入台积电并持续投入晶圆制程技术开发工作[2] - 罗唯仁从台积电离职后很快加入英特尔，担任执行副总裁，英特尔称其回归是公司转型的一部分[2][3] 公司立场与回应 - 英特尔强调公司制定严格的政策与管控措施，严禁使用或转让任何第三方的机密信息或知识产权，并尊重知识产权[2] - 英特尔CEO陈立武在内部信中表示公司会继续全力支持罗唯仁，并否认台积电的说法，强调英特尔无意违反任何知识产权法律[2]

公司回应与诉讼背景 - 英特尔公司于11月27日早间发布声明，回应台积电提起的诉讼 [1] - 英特尔强调公司有严格政策与管控措施，严禁使用或转移任何第三方的保密信息或知识产权 [1] - 台积电在两天前（约11月25日）正式向法院提起诉讼 [1] 诉讼核心指控 - 台积电指控其前资深副总经理罗唯仁违反保密协议与竞业禁止义务 [1] - 罗唯仁涉嫌将包括2nm在内的先进制程机密泄露给英特尔公司 [1]

诉讼与回应 - 台积电向法院提起诉讼，指控前资深副总经理罗唯仁违反保密协议与竞业禁止义务，涉嫌将2nm等先进制程机密泄露给英特尔[1] - 台积电法务部门调查显示，罗唯仁于2024年3月离开管理研发的部门后仍多次要求研发团队提供先进制程资料，并在离职面谈时隐瞒将入职英特尔的事实[1] - 英特尔回应称相关指控是“毫无根据的谣言”，并强调公司有严格政策禁止使用第三方知识产权[2] 技术路线与差异 - 英特尔18A制程采用RibbonFET晶体管与背面供电技术，声称与台积电2nm工艺路线存在本质差异[2] - 英特尔是高数值孔径极紫外光刻（High-NA EUV）技术的早期采用者，而台积电目前尚未布局该技术[2] - 英特尔宣布其18A工艺已在美国亚利桑那州工厂启动大规模量产，晶体管密度较上一代提升30%，相同能耗下性能提升15%[2] 行业背景与竞争格局 - 2025年第二季度全球纯晶圆代工行业营收同比增长33%，核心驱动力是先进工艺在AI GPU领域的应用[3] - 若英特尔无法在未来1-2年内将18A制程良率提升至商业化水平，其技术先发优势可能被台积电、三星的成熟产能吞噬[3] - 英特尔招揽罗唯仁的核心原因被认为是希望借助其行业经验加速技术落地，与时间赛跑[3] 关键人物背景 - 罗唯仁拥有美国加州大学伯克利分校固态物理与表面化学博士学位，曾在英特尔担任CTM厂长，于2004年7月加入台积电[3] - 罗唯仁在台积电工作期间主导EUV光刻技术导入，并于2025年7月27日退休，较公司限定67岁退休年龄延退8年[1][3]

诉讼事件核心 - 台积电向法院提起诉讼，指控前资深副总经理罗唯仁违反保密协议与竞业禁止义务，涉嫌将2nm等先进制程机密泄露给英特尔 [1] - 英特尔回应指控为"毫无根据的谣言"，并强调有严格政策禁止使用第三方知识产权 [2] - 台积电法务部门调查显示，罗唯仁在离职面谈时声称将入职学术机构，但随后在10月底以执行副总裁身份出现在英特尔员工名单中 [1] 涉事人员背景 - 罗唯仁于2025年7月27日从台积电退休，工作期间主导EUV光刻技术导入，拥有美国加州大学伯克利分校固态物理与表面化学博士学位 [1][3] - 罗唯仁曾在英特尔担任先进技术制造厂CTM厂长，2004年7月加入台积电，退休时75岁，是台积电历任副总级退休年纪最高者 [3] 技术路线差异 - 英特尔18A制程采用RibbonFET晶体管与背面供电技术，声称与台积电2nm工艺路线存在本质差异 [2] - 英特尔是高数值孔径极紫外光刻（High-NA EUV）技术的早期采用者，而台积电目前尚未布局该技术 [2] - 英特尔宣布其18A工艺已启动大规模量产，晶体管密度较上一代提升30%，相同能耗下性能提升15% [2] 行业背景与竞争态势 - 2025年第二季度全球纯晶圆代工行业营收同比增长33%，核心驱动力是先进工艺在AI GPU领域的应用 [3] - 英特尔若无法在未来1-2年内将18A制程良率提升至商业化水平，其技术先发优势可能被台积电、三星的成熟产能吞噬 [3] - 英特尔18A技术被视为打破台积电技术垄断的核心抓手 [2]

核心事件 - 台积电在中国台湾地区知识产权及商业法院对其前资深副总经理罗唯仁提起诉讼 [2] - 台积电指控罗唯仁在任职期间已签订保密条款以及离职后的竞业禁止条款承诺 但离职后随即前往英特尔担任执行副总裁 [2] - 台积电称罗唯仁泄露商业机密 据媒体报道其疑似带走2纳米以下先进制程相关机密跳槽至英特尔 [2] 英特尔回应 - 英特尔公司否认台积电的指控 表示坚持实行严格的政策和控制措施 严禁使用或转移任何第三方的机密信息或知识产权 [2] - 英特尔在电邮声明中称 根据目前掌握的所有信息 没有理由相信有关罗唯仁的指控具有任何依据 [2]