财务表现 - 2024年公司实现营业收入5.08亿元，归母净利润9186.82万元，同比增长2.97% [1] - 拟每10股派发现金红利9.58元(含税)，合计分配现金股利3997.47万元，占归母净利润的43.51% [1] - 晶圆探针台设备营业收入1.84亿元，同比增长6.27%，毛利率达46.93% [1] - 晶粒探针台设备营业收入2.81亿元，毛利率同比增长7.23% [1] - 其他设备(包括分选机)营业收入同比大增94.40% [1] 研发与技术实力 - 2024年研发投入6810万元，同比增长15.88%，近三年复合增长率17.78% [2] - 在研项目共计32项 [2] - 已建成广东省高精密半导体探针台工程技术研究中心 [2] - 获得广东省制造业单项冠军企业、国家级专精特新"小巨人"企业等多项认证 [2] 市场地位与竞争优势 - 境内首家实现产业化应用的12英寸晶圆探针台设备厂商 [2] - 2019年中国探针台设备市场份额13%，市场排名第4，是排名第一的境内厂商 [3] - 产品应用于境内领先的封测厂商和12英寸芯片产线 [2] - 与士兰微、比亚迪半导体、华天科技等多家领先半导体制造厂商建立合作关系 [2] 行业发展与机遇 - 中国正以前所未有的力度推进半导体产业链自主化进程 [2] - 各级政府密集出台扶持政策，助力国产半导体设备企业发展 [3] - 美国对华半导体限制加码促使内需市场信心回暖 [3] - 半导体设备国产化浪潮为公司提供发展机遇 [3]

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 来源：内容 编译自 eenewseurope ，谢谢。 据报道，初创公司Lace Lithography AS（挪威卑尔根）正在开发一种光刻技术，该技术使用向表 面发射的原子来定义特征，其分辨率超出了极紫外光刻技术的极限。 该公司由卑尔根大学首席执行官 Bodil Holst 教授和首席技术官 Adria Salvador Palau 于 2023 年 7 月共同创立，后者在卑尔根大学获得博士学位，但目前在西班牙巴塞罗那运营。 传统的 EUV 系统使用 13.5nm 波长的光，通过一系列反射镜和掩模在晶圆上形成图案。原子光刻 技术能够实现直接无掩模图案化，其分辨率甚至小于受波长限制的 EUV 系统所能达到的分辨率。 该公司在其网站上声称："通过使用原子代替光，我们为芯片制造商提供了领先当前技术 15 年的 功能，而且成本更低、能耗更低。" Salvador Palau 和 Holst 教授共同撰写了一篇发表在《物理评论 A》上的论文，题为《利用中性 氦原子进行真实尺寸表面映射》。该论文详细介绍了立体氦显微镜的实现和操作。 Lace Litho 所称的 BEUV 理论上 ...

公司概况 - 卓海科技是国内重要的半导体前道量检测设备供应商，主要通过对退役设备的精准修复和产线适配来实现其再利用价值 [1] - 前道量检测修复设备贡献超过90%的营收 [1] - 公司曾递表深交所被否，现转战北交所并收到13条问询函，涉及业务技术、公司治理、财务信息等多方面 [1] 财务表现 - 2020-2022年营收增速分别为82.15%、161.66%、60.76%，归母净利润增速分别为110.85%、174.86%、54.64% [2] - 2023-2024年营收增速骤降至21.44%和21.97%，2024年归母净利润同比下降21.60%至1.04亿元 [2] - 2024年综合毛利率从60%左右降至46.56%，下滑近15个百分点 [2] - 监管要求公司说明经营稳定性、收入可持续性及毛利率下滑原因 [3] 研发能力 - 2022-2024年研发费用分别为1508.33万元、2842.14万元、3369.13万元，占营收比重4.81%、7.46%、7.25% [4] - 可比公司中科飞测、精测电子、华亚智能2022-2023年研发费用率平均值为21.61%和18.94%，显著高于卓海科技 [4] - 公司解释业务模式差异导致研发投入较低，但引发对研发门槛和新进入者威胁的质疑 [4] - 核心技术人员简历存在与公开信息矛盾的情况，如任职时间早于公司成立时间 [5] 募资与分红 - 2020-2021年经营活动现金流净额为-3533.05万元和-5370.37万元，却累计分红1916.67万元 [6] - 创业板IPO原计划募资5.47亿元，北交所IPO募资增至7亿元，增加1.5亿元 [6] - 募投项目未变（扩产、研发中心、流动资金），但金额提升引发合理性质疑 [6] 行业背景 - 2018-2022年中国大陆前道量检测设备市场规模年复合增长率24.89%，全球占比从22.07%增至26.36% [2] - 2023年后半导体行业进入库存去化周期，产能扩建与设备采买需求受冲击 [2]

公司业绩表现 - 北方华创2025年一季度营收82.1亿元，同比增长37.9% [1] - 归母净利润15.8亿元，同比增长38.8% [1] - 业绩增长主要源于集成电路装备领域关键技术突破、新产品工艺覆盖度提升及成熟产品市占率扩大 [1] 行业发展趋势 - 全球半导体制造设备出货金额2024年达1171亿美元，较2023年1063亿美元增长10% [1] - 中国大陆半导体设备投资同比增长35%至496亿美元，保持全球最大市场地位 [1] - 半导体设备作为芯片制造基石的重要性在中美科技对抗背景下持续提升 [1] 国产替代进程 - 半导体设备国产替代趋势加强，自主可控成为长期逻辑 [1] - 半导体产业链安全对国内晶圆厂重要性提升 [1] - 北方华创作为核心厂商预计将受益于国产化率提升，2025年集成电路新签订单持续快速增加 [1] 资金流向 - 半导体设备ETF（561980）连续三日净流入1169万元 [2] - 该ETF标的指数聚焦40只半导体设备及材料公司，前十大成份股合计占比超76% [2] - 指数成份股包括北方华创、中微公司、中芯国际等龙头企业 [2]

日本半导体设备销售表现 - 2025年3月日本半导体制造设备销售额达4,324.01亿日元，同比增长18.2%，创历史次高纪录[2] - 月销售额连续5个月突破4000亿日元，连续17个月突破3000亿日元[2] - 2025年1-3月累计销售额达1兆2,612.56亿日元，同比暴增26.4%[2] - 2024年全年销售额达4兆4,355.99亿日元，同比增长22.9%，创历史新高[2] 市场预测与增长动力 - 预计2024年度(2024年4月-2025年3月)销售额将达4兆2,522亿日元，同比增长15%[3][4] - 2025年度预计增长10%至4兆6,774亿日元，2026年度预计突破5兆日元[4] - 2024-2026年复合增长率(CAGR)预计达11.6%[4] - AI相关需求是主要增长动力，包括AI服务器GPU、HBM及未来AI PC/手机需求[4] 行业地位与公司动态 - 日本半导体设备全球市占率达30%，仅次于美国位居第二[2][4] - DISCO公司预计4-6月出货额将达1,020亿日元，创季度历史次高[2] - Tokyo Electron社长预计2027年30-40%的PC/智能手机将搭载AI[4]

纪要涉及的公司和行业 - 公司：中科飞测 - 行业：高端半导体质量控制设备行业、国内量测设备行业、半导体检测行业 纪要提到的核心观点和论据 经营情况 - 2024 年营收约 13.8 亿元，同比增长 55%左右；2025 年 Q1 营收约 2.94 亿元，同比增长 25%左右，得益于产品多样化、客户群体扩大和市场认可度提升[3] - 2024 年和 2025 年 Q1 利润下降，因研发投入增加和股份支付费用影响，2024 年研发投入 4.98 亿元，占比 36.07%；2025 年 Q1 研发投入 1.2 亿元，占比 40.91%[5] - 2025 年 Q1 毛利率提升至 58%，因前道制程收入占比超 80%且先进制程设备收益显著，先进制程产品占比超 70%提升了相关产品毛利率[2][9][10] 产品进展 - 各系列设备向更先进制程或新兴先进封装领域升级迭代，OCD 设备 2024 年通过客户验证，明场和暗场设备反馈良好[2][6] - 重点研发纳米图形检测、暗场和 OCD 设备，明场设备小批量出货至国内头部客户，暗场设备覆盖国内大产线及头部客户，已出货近 10 台，OCD 设备完成客户产线验证并销售[2][11][12] - 其他系列量测设备配合国内最先进制程产线需求研发验证取得成果，如无图形、模后实现销售，3D AOI 及 3D 形貌检测设备在 HBM 领域应用并通过验证，最新一代 TOK 设备完成多台出货并覆盖国内头部客户[12] 收入及订单情况 - 产品结构上，无图形和图形销售分别占 50%和 20%销售收入，3D 形貌测量、模具检测和套刻精度产品各占 10%左右[7] - 2024 年全年平均每月新增订单约 2 亿元，2025 年 Q1 套刻精度测量设备占比超 10%，暗场纳米图形缺陷检测设备成芯片订单前三大之一[2][7] - 应用领域上，前道制程与先进封装保持 80/20 比例，2025 年 Q1 前道制程销售占比超 80%；制程上，高端制程比例持续增加，24 年底超 50%，25 年 Q1 继续提升；客户方面，前五大客户覆盖国内头部前道工艺与先进封装企业[7][8] 研发情况 - 2024 年加大明场、暗场及 OCD 光学类量测设备研发投入，推进电子束相关产品研发，计划今年出货；2024 年股份支付费用 8000 多万元计入研发费用致投入增长，未来布局完善后研发投入将趋稳[4][13] - 单光谱和多光谱技术在设备研发上有共性，可基于单光谱技术升级实现多光谱功能；多光谱设备去年底送样，验证周期 9 - 12 个月，预计今年四季度末出结果，进展顺利[26][27][28] 行业竞争与发展趋势 - 国内量测设备行业竞争激烈，检测仪器市场规模增长但国产化率低，未来几年国产化率将迅速提升，如无图形缺陷检测设备国产化率接近 50%[14] - 中科飞测竞争优势在于快速迭代产品、覆盖广泛种类、满足先进制程需求和建立客户信任，积累 200 多家长期客户，累计销售超 1000 台量检测产品[14] 未来展望 - 2025 年 Q1 收入增长未达往年 50%复合增速，全年预计保持 50%左右增长；因研发费用增速趋稳和费用率降低，2025 年有望盈利；订单预计稳定增长，但具体情况需更多时间预期[4][15] 外部影响 - 美国实体清单对中科飞测供应链和销售无实质影响，公司实施零部件多元化控制，主要销售区域为国内及日韩东南亚[4][17] 其他重要但是可能被忽略的内容 - 国内电子束设备研发有进展，但在满足先进制程客户需求和批量使用上有差距，公司将利用光学技术优势补充关键零部件推动其发展[18][19] - 明场检测设备单波长和宽光谱产品满足不同需求，目前以宽光谱为主要方向[20] - 2025 年存储大厂可能大规模导入国产量测设备，公司所在赛道订单增速可能高于行业龙头[20] - 国内客户对国产设备购买意愿强烈，受美国政策和设备赢得客户信任影响，订单增长希望大但时间不确定[21] - 国产化率受设备种类和工艺制程影响，目标是推出并验证量产设备提高国产化率[22] - 下游晶圆厂选择设备厂商考虑技术成熟度、成本效益比和技术保密程度[23][24] - 明场暗场检测领域，公司在许多先进制程产线是唯一供应商，因后期工艺配合精力需求大[25] - 公司成长逻辑分基本盘业务、明暗场检测和未来电子束 OCD 等新业务，明暗场检测价值占比高，暗场已拿批量订单，明场需时间推进[26] - 2025 年公司有明暗场检测产品测样和送样机台计划，同步进行老客户机台成熟度验证和新客户产品推广[31] - 先进制程是未来发展主要动力，2024 年公司收入中先进制程及存储占比 70%左右，前五大客户占比约 40%，未来 20 纳米及以上先进制程是主要方向[29][30]

文章核心观点 - 公司专注为个人投资者寻找高收益投资机会，凭借专业自营交易背景，将复杂概念简单化，提供清晰可行建议助投资者获更好回报，分析基于专业研究，助投资者在市场做明智决策 [1] 分析师持仓情况 - 分析师通过股票、期权或其他衍生品对ASML股票有实益多头头寸 [2]

公司业绩与评级 - 2024年10月分析师给予Lam Research"强力买入"评级，后因风险上升下调至"持有"，合理价值为73美元 [3] - 2025财年第三季度营收增长24.2%，营业利润增长34.7%，系统收入同比增长26.7% [3] - 预计2025财年第四季度收入为50亿美元±3亿美元，营业利润率33.5% [5] - 预计25财年收入增长25%，26财年放缓至9%，之后恢复至12% [7] - 预计年利润率增长30个基点，34财年运营利润率达31.7% [7] 市场与技术驱动因素 - NAND技术升级周期推动系统需求增长，DRAM和代工逻辑客户积极升级系统以适应先进NAND技术 [5] - 管理层预计2025财年全球晶圆厂设备(WFE)支出约1000亿美元 [5] - 先进节点的系统升级将在全球WFE支出中发挥重要作用 [5] - 短期WFE增长可能出现波动，因晶圆代工厂和NAND制造商可能预先购买设备以应对潜在关税影响 [5] 财务预测与估值 - 2025-2034年详细财务预测数据，包括营收、营业利润、净利润和自由现金流 [7] - 股权自由现金流(FCFE)计算假设无风险利率4.2%，贝塔系数1.55，股权风险溢价6%，股权成本13.5% [7] - 终端增长率设定为5%，与WFE市场长期增长一致 [7] - 公允价值计算为每股73美元 [7][8] 中国市场影响 - 中国市场占公司总收入31%，大部分收入来自国内客户 [8] - 管理层业绩指引已考虑美国对华出口限制，但新限制可能进一步影响增长 [8]

报告公司投资评级 - 买入（维持）[1] 报告的核心观点 - 北方华创业绩持续高增半导体设备表现亮眼盈利能力改善研发投入加大存货增长订单充足作为本土平台型公司将受益国产替代浪潮考虑股权激励费用调整盈利预测维持买入评级 [7] 根据相关目录分别进行总结 盈利预测与估值 - 2023 - 2027 年营业总收入分别为 220.79 亿、298.38 亿、385.64 亿、478.61 亿、571.63 亿元同比分别为 50.32%、35.14%、29.24%、24.11%、19.43% [1] - 2023 - 2027 年归母净利润分别为 38.99 亿、56.21 亿、73.44 亿、93.03 亿、112.65 亿元同比分别为 65.73%、44.17%、30.65%、26.68%、21.10% [1] - 2023 - 2027 年 EPS - 最新摊薄分别为 7.30、10.52、13.75、17.42、21.09 元/股 P/E（现价&最新摊薄）分别为 62.10、43.07、32.97、26.03、21.49 [1] 市场数据 - 收盘价 453.28 元一年最低/最高价 278.13/490.03 元市净率 7.41 倍流通 A 股市值 2419.22 亿元总市值 2421.31 亿元 [5] 基础数据 - 每股净资产 61.15 元资产负债率 50.00% 总股本 534.18 百万股流通 A 股 533.71 百万股 [6] 业绩情况 - 2024 年营收 298.4 亿元同比 +35.1% 电子工艺设备收入 277.1 亿元同比 +41.3% 占比 88.8% 电子元器件收入 20.9 亿元同比 -13.9% 占比 11.0% [7] - 2024 年归母净利润 56.2 亿元同比 +44.2% 扣非归母净利润 55.7 亿元同比 +55.5% [7] - 2025Q1 单季营收 82.1 亿元同比 +37.9% 环比 -13.5% 归母净利润 15.8 亿元同比 +38.8% 环比 +36.4% 扣非归母净利润 15.7 亿元同比 +44.8% [7] 盈利能力与研发投入 - 2024 年毛利率 42.9% 同比 +1.8pct 电子工艺装备毛利率 41.5% 同比 +3.8pct 电子元器件毛利率 60.3% 同比 -5.3pct [7] - 2024 年期间销售净利率 19.1% 同比 +0.8pct 扣非销售净利率 18.7% 同比 +2.5pct 期间费用率 23.2% 同比 -0.8pct [7] - 2024 年销售/管理/研发/财务费用率分别为 3.6%/7.1%/12.3%/0.2% 同比 -1.3/-0.9/+1.1/+0.3pct 研发投入 53.7 亿元同比 +21.8% [7] - Q1 单季毛利率 43.0% 同比 -0.4pct 环比 +3.1pct 销售净利率 19.1% 同比持平环比 +6.1pct [7] 存货与订单情况 - 截至 2025Q1 末合同负债 57.5 亿元同比 -37.8% 存货 252.1 亿元同比 +40.9% 2025Q1 经营活动净现金流 -17.3 亿元同环比转负 [7] 平台化布局 - 2025 年 SEMICON 展会上推出首款离子注入机 Sirius MC 313 和首款电镀（ECP）设备 Ausip T830 计划获取芯源微控制权拓展资产布局 [7] - 产品线涵盖薄膜沉积、干法刻蚀/去胶、涂胶显影、离子注入、清洗、电镀、热处理的氧化/RTP 等多种设备 [7] 财务预测 - 资产负债表、利润表、现金流量表对 2024 - 2027 年相关财务指标进行预测如流动资产、营业总收入、经营活动现金流等 [8] - 重要财务与估值指标对 2024 - 2027 年每股净资产、ROIC、P/E、P/B 等指标进行预测 [8]

报告行业投资评级 未提及相关内容 报告的核心观点 报告围绕光刻机展开，阐述光刻工艺是芯片制造关键且难度大的环节，介绍光刻机部件、市场格局及国内供应链情况，指出海外三强垄断市场，国产光刻机虽有进展但国产化率低，在美日荷出口限制下国产化势在必行 [7][107][140] 根据相关目录分别进行总结 光刻工艺：芯片制造技术难度最大环节 - 光刻工艺是芯片制造中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节，光刻技术水平决定芯片最小线宽、制程和性能水平，先进技术节点芯片制造需60 - 90步光刻工艺，光刻成本占比约30%，耗费时间占比约40 - 50% [7] - 光刻核心工具包括光掩膜、光刻机和光刻胶，光刻工艺一般经历表面处理、旋转涂胶、前烘、对准曝光、后烘、显影、坚膜烘焙和检测八道工序 [10][13] - 分辨率、套刻精度为光刻工艺关键参数，光刻分辨率由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定，改善分辨率可通过缩短光源波长、增大数值孔径、降低工艺因子实现 [14][19] - 套刻指光刻中每层图形精确转移到硅片正确位置，投影光刻机不同层误差取决于对准精度，套刻误差允许在光刻分辨力的1/3 - 1/5范围以内，对准误差在套刻误差的1/3以内 [32] - 产能是衡量光刻机生产效率的核心指标，当前ASML的NXT系列高端浸入式光刻机NXT2150i产能≥310WpH，NXT：2100i≥295WpH [37] 光刻机部件：光源、照明系统、投影物镜为核心组件 - 光刻机主要由光源系统、照明系统、曝光物镜系统、对准系统、硅片传输系统、环境控制系统、计算机控制系统等部分组成，光源系统、照明系统、曝光物镜系统为核心组件 [43] - 光源为光刻提供能量，不同制程和芯片类型需匹配特定光源，常见光刻光源包括汞灯、准分子激光和极紫外光，ASML光源供应商主要为Cymer、日本Gigaphoton公司 [45] - 照明系统对光源发出的激光进行扩束，确保光照均匀性和强度，提供特定照明模式，包含传输光路、光束矫正器等组件 [53] - 投影物镜将经过掩模版图案后的衍射光收集并聚焦至晶圆表面光刻胶上，是影响数值孔径的关键，常见像差包括球差、彗差、象散、场曲、畸变、色差，投影物镜结构类型主要有全折射型、折反射型、全反射型 [57][61] - 双工作台光刻机集成两个独立工作台，可同时处理两个硅片或掩模，提高生产效率和设备利用率，面临超高对准精度要求、高速运动与运作稳定挑战 [75][77] - 超精密位移测量系统是光刻机关键分系统，影响工件台位置测量精度和套刻精度，主要有双频激光干涉仪和平面光栅测量系统两种 [78] - 对准系统是套刻精度的核心保障，随着光刻技术发展，对对准精度要求达亚纳米量级，对准技术改进方向包括优化光机结构、引入更多偏振态和波长等 [90][105] 光刻机市场：ASML、Nikon、Canon垄断 光刻机发展历程：步进扫描投影式光刻机为当前主流机型 - 光刻机曝光方式先后经历接触式、接近式和投影式，投影光刻机又经历扫描投影、步进重复投影与步进扫描投影阶段，步进扫描投影光刻机解决大曝光场与高分辨率矛盾，是当前主流机型 [107] - 接触式光刻机掩模与硅片光刻胶直接接触，优点是减小光衍射效应影响，缺点是污染、损坏掩模版和光刻胶层；接近式光刻机在掩模和硅片间留微小间距，减少污染和损坏，但分辨率只能达到3μm左右 [108][109] - 扫描投影光刻机将掩模图形投影成像到硅片面，采用1：1光学镜头，主要应用于中等规模集成电路制造；步进重复式投影光刻机采用缩小倍率投影物镜，降低掩模设计制造难度和成本，主要应用于0.25μm以上工艺 [111][115] - 步进扫描投影光刻机在投影物镜视场一定时通过扫描实现更大曝光场，降低投影物镜研发难度，主要用于高端芯片制造关键层 [121] 千亿级市场，海外三强垄断 - 2024年全球光刻机设备市场规模预计达315亿美元，是市场占比最大的细分设备，全球光刻机出货量持续提升，销量主要集中在中低端产品 [124][126] - 光刻机市场呈寡头垄断格局，由ASML、Nikon和Canon主导，ASML占据绝对主导地位，在超高端光刻机EUV领域独占市场，在高端光刻机ArFi和ArFdry领域也占主导地位 [130] - 中国是半导体设备最大市场，光刻机需求量大，2024年ASML在中国大陆营收占比36.1%；国产光刻机供不应求，国产化率仅为2.5%，整机技术与海外差距较大，未来3 - 5年仍主要依赖进口 [138][140] - 美日荷加强对华先进制程出口限制，光刻机国产化势在必行 [141] 国内供应链厂商梳理 上海微电子：国内光刻机整机制造厂商 - 上海微电子2002年成立，引领国内光刻机制造发展，其光刻机产品可用于平板显示、先进封装等环节，SSX600系列步进扫描投影光刻机可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层光刻工艺需求 [143] 国科精密：专注高端曝光光学系统制造 - 国科精密成立于2014年8月，专注于光刻机投影物镜系统等领域研发、生产和销售，建立超精密光机研发体系，承担多项国家级科研项目 [145] - 公司积极拓展业务布局，在上海设立分公司专注光刻机照明系统研发，提升相关能力 [147] 科益虹源：DUV光源制造商 - 科益虹源2016年7月成立，是中国唯一、全球第三家具备光刻准分子激光技术全链条研发和产业化能力的公司，业务涵盖国产自研光刻曝光光源产品等领域 [148]