公司概况 - 初源新材（原五江高科）成立于2017年11月，无控股股东，第一大股东为湖南铭泰投资合伙企业（有限合伙），持股23.31%，实控人肖志义控制公司69.92%股份表决权 [4] - 公司深耕干膜光刻胶领域，打破国外垄断并填补国内空白，首次创建国产PCB光刻胶产业链 [6] - 2023年公司国际化布局加速，在泰国建立海外生产基地与技术平台 [6] 技术实力与产品 - 拥有40多项专利技术，开发了HR硬板、FPC软板及软硬结合板线路、掩孔用和HD激光直接成像等系列产品 [6] - 具备覆盖PCB全制程需求的30多种型号产品，掌握从树脂合成到精密涂布的全流程工艺技术 [6] - 形成独立自主知识产权的全链条感光干膜核心技术 [6] 市场地位 - 主营产品占据国产干膜55%以上市场份额 [6] - 为多家全球TOP10 PCB企业及80%以上国内PCB上市企业提供产品与服务 [6] 行业背景 - 干膜光刻胶是PCB制作关键材料，由聚乙烯膜（PE）、光致抗蚀剂膜和聚酯薄膜（PET）构成，技术门槛高且行业集中度高 [8] - 光致抗蚀剂膜为核心感光材料，聚酯薄膜为基底，聚乙烯膜起保护作用 [8] - 生产需精密涂布设备与高度清洁环境，涉及烘干、冷却及卷绕成膜等工艺 [8] 行业活动 - 势银将于2025年7月9日-10日在合肥举办第五届光刻产业大会，聚焦光刻技术、材料及设备进展 [8]

公司动态 - 江苏欧名欣半导体材料有限公司于6月13日在苏州纳米城正式开业，专注于光刻胶及配套材料研发生产 [1][3] - 公司聚焦半导体光刻胶国产替代，以酚醛树脂-叠氮萘醌体系为核心，3个月内实现LED芯片光刻胶100%需求覆盖并形成订单 [3] - 公司产品已成功在京东方华灿、松山湖材料实验室、兆驰广电等行业知名企业实现量产应用 [3] 产品与技术 - 核心产品包括高分辨率i线光刻胶、高耐热电镀厚膜光刻胶、负性lift off工艺光刻胶以及SU8光刻胶 [3] - i线光刻胶适用于0.5-0.35μm、0.25μm工艺线宽，分为普通I线、高分辨I线和厚膜光刻胶三类 [4] - 高耐热电镀厚膜光刻胶可耐受150℃以上高温，膜厚可达100-120um，具有良好的粘附性和高分辨率 [5][6][7] - 负性lift off工艺光刻胶具有耐化学性、热稳定性和抗刻蚀性，可形成倒梯形形貌 [9][10][11][12] - SU8光刻胶可用于微流控芯片、模具制造以及组织工程与器官芯片等领域 [14][15][16] 行业活动 - 2025势银（第五届）光刻产业大会将于7月9日-10日在安徽合肥举办，聚焦先进光刻技术、材料及设备 [18] 产业生态 - 欧名欣依托苏州工业园区优越的产业生态环境，采用自主设计核心原物料、委外加工的创新模式，打破国外技术垄断 [3]

会议概况 - 会议名称：2025势银光刻产业大会，由势银（TrendBank）主办，深圳市半导体与集成电路产业联盟协办，势银芯链承办 [11][14] - 会议时间：2025年7月9日-10日，地点在安徽合肥新站利港喜来登酒店，规模300人 [14] - 会议费用：6月30日前报名2600元/人，7月1日后2800元/人，包含会议资料、自助午餐和晚宴 [16] 会议内容与亮点 - 讨论内容涵盖极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，以及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈 [11] - 设置三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备，覆盖全产业链 [12] - 20+产业链嘉宾演讲，包括学术研讨和会+展形式，促进产学研用融合 [12][15] 演讲嘉宾与主题 - 王野（上海芯东来半导体科技总经理）将分享"半导体光刻设备的本土产业化机遇与挑战"，其团队拥有20多年原厂经验，专注于光刻机国产化 [5][10] - 其他演讲主题包括：高性能芯粒异构集成技术、纳米压印/电子束/DSA技术、混合键合在先进封装中的应用、光刻胶研发进展等 [8][9][10] 行业背景与挑战 - 光刻技术是半导体制造的关键环节，直接决定芯片性能和生产成本 [19] - 国内光刻产业面临挑战：高端光刻胶自给率低、湿电子化学品依赖进口、掩模版制造技术难度大、光刻机被国外垄断 [19] - 全球地缘政治摩擦加剧，需加强光刻技术自主可控能力，大会旨在促进产学研合作和资源整合 [20]

会议概况 - 会议名称为2025势银光刻产业大会，由势银（TrendBank）主办，深圳市半导体与集成电路产业联盟协办，将于2025年7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举办，规模300人[11] - 会议聚焦极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，并深入讨论光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈[11] - 设置三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备，覆盖全产业链[12] 核心议题 - 中科芯微系统集成工艺中心主任王成迁将发表主题报告《面向AI时代的高性能芯粒异构集成技术：机遇与挑战》，内容涉及晶圆级扇出先进封装工艺平台技术[4][5][8] - 京东方LCD产品开发中心部长汪栋将分享《TFT-LCD光刻胶技术思考》，南开大学罗锋教授探讨低成本纳米压印/电子束/DSA技术方向[8] - 势银分析师应颖将发布《2025年中国大陆光刻胶市场分析》，其他议题包括混合键合、导向自组装图形化技术、光刻胶树脂产业化等[8][9] 行业背景 - 光刻技术是半导体制造的核心环节，但国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品部分依赖进口，掩模版原料和光刻机（如EUV）受制于国外垄断[18] - 全球地缘政治加剧供应链风险，需通过产学研合作提升自主可控能力，大会旨在促进技术创新与资源整合[19] 会议亮点 - 20+产业链嘉宾演讲，包含学术研讨（如复旦大学李自力副研究员报告导向自组装技术）与产业实践（如矽磐微电子探讨先进封装光刻技术难点）[8][12][13] - 采用"会+展"形式，提供上下游供应链对接平台，如宁波天璇新材料展示纳米压印胶光刻胶研发进展[8][13] 参会信息 - 早鸟报名费2600元/人（6月30日前），含会议资料、自助午餐及晚宴；7月1日后费用调整为2800元/人[15] - 参会企业包括中科芯、京东方、永光化学、安捷伦科技等产业链上下游机构[8][9][10]

会议概况 - 2025势银（第五届）光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行，聚焦光刻技术、材料及设备国产化议题 [1][14][15] - 会议规模300人，设置三大专场（先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备）及学术研讨环节，覆盖全产业链 [15][16][17] - 24家产学研单位确认参会，包括京东方、中科芯、鼎龙、波米科技、复旦大学等，涵盖技术研发、材料生产、设备制造等环节 [1][6][7] 核心议题 - **技术方向**：探讨极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，以及混合键合、导向自组装图形化等先进封装工艺 [6][14][26] - **材料瓶颈**：分析光刻胶（CAR、聚酰亚胺）、湿电子化学品、掩膜版的技术难点与国产化进展，涉及树脂产业化、纯度标准等 [7][14][24] - **设备挑战**：聚焦半导体光刻设备本土化（如激光直写设备）、光刻气体应用、检测技术等产业化问题 [8][14][24] 参会企业与机构 - **产业链覆盖**：参会企业包括材料商（永光化学、圣泉集团）、设备商（芯东来半导体）、检测机构（上海市计量技术研究院）及高校（南开大学、复旦大学） [6][7][9][10] - **关键职位**：超80家机构代表参会，涵盖研发总监（矽磐微电子）、总经理（天璇新材料）、教授（凯诺中星）等核心决策者 [9][10][11][12][13] 行业背景与目标 - **国产化痛点**：国内高端光刻胶自给率低、湿电子化学品纯度不足、掩膜版原料依赖进口，光刻机技术差距显著 [24][26] - **大会价值**：推动产学研合作，加速技术转化，构建供应链安全生态，应对地缘政治风险 [26][27] 会议议程亮点 - **主题演讲**：包括京东方"低成本纳米压印技术"、中科芯"TFT-LCD光刻胶技术"、势银"2025年中国大陆光刻胶市场分析" [6][7] - **圆桌论坛**：设置产业生态讨论环节，晚宴提供深度交流机会 [7][18] 往届与主办方 - 上届会议（2024年）以"光刻材料自主可控"为主题，本届延续技术突破与产业链协同主线 [28] - 主办方势银（TrendBank）为国内知名产业研究机构，提供数据、咨询及会议服务 [35][36]

半导体掩膜版行业现状 - 全球半导体掩膜版市场以晶圆厂或IDM厂自主消化为主，中低端产品外包给独立第三方厂商 [1] - 中国大陆厂商量产半导体掩膜版工艺节点集中在350nm-130nm，90nm及以下工艺节点参与厂商较少 [1] - 中国半导体掩膜版国产化率约10%，高端掩膜版国产化率仅3%，90%依赖进口 [1] 龙图光罩 经营能力 - 2024年营收来自深圳工厂现有产能，珠海募投项目快速推进 [4] - 产品应用于功率半导体、MEMS传感器、IC封装、模拟芯片等特色工艺 [4] - 石英掩膜版收入占比从2023年78.79%提升至2024年81.31%，苏打掩膜版收入稳定 [4] - 产品销量同比增长6.31%，全年营收同比增长12.92% [4] 产品能力 - 130nm以上制程节点产品达到国际一线水平，正逐步替代境外厂商市场份额 [5] - 已实现130nm工艺节点量产，更高制程节点PSM产品研发成功并送客户验证 [5] 清溢光电 经营能力 - 2024年平板显示掩膜版业绩同比增长17.59%，AMOLED/LTPS营收同比增长21.75% [5] - 半导体芯片掩膜版营收同比增长33.98%，通过技术能力提升和产能优化推动业务发展 [5] 产品能力 - 已量产8.6代高精度TFT用掩膜版、6代AMOLED/LTPS掩膜版及中高端HTM产品 [6] - 实现180nm工艺节点量产，150nm小规模量产，推进130nm-65nm及28nm工艺开发 [6] 路维光电 经营能力 - 2024年营收同比增长30.21%，OLED用掩膜版带动平板显示业务增长 [6] - 先进封装掩膜版成为第二成长曲线，成为下游封测厂头部供应商 [6] 产品能力 - 国内唯一全面配套G2.5-G11面板产线的本土企业，覆盖全显示技术 [8] - 实现180nm制程节点量产，掌握150nm/130nm核心技术，覆盖第三代半导体 [8] - 投资建设130-28nm半导体掩膜版项目 [8] 行业会议 - 2025势银光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥举办，聚焦先进光刻技术、材料及设备 [10]

会议概况 - 会议名称：2025势银光刻产业大会，主办单位为势银（TrendBank），协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟，承办单位为势银芯链 [17] - 会议时间：2025年7月9日-10日，地点在安徽合肥新站利港喜来登酒店，规模约300人 [5][17] - 会议费用：6月30日前报名2600元/人，7月1日后2800元/人，含会议资料、自助午餐及晚宴 [18] 会议内容与亮点 - 讨论内容涵盖极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，以及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈 [14] - 设置三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备，覆盖全产业链 [15] - 20+产业链嘉宾演讲，包括学术研讨环节，聚焦光刻技术理论与研发 [15][16] 重点企业及嘉宾 - 波米科技总经理杜孟成将分享《先进封装聚酰亚胺材料及其发展趋势》，该公司是国家高新技术企业，研发投入强度超40%，研发人员占比70%，拥有60余项国家发明专利，率先实现集成电路封装用PSPI国产化量产 [7] - 其他参会企业包括中科芯、京东方、南开大学、矽磐微电子等，涉及光刻胶、湿电子化学品、检测装备等细分领域 [10][11][12] 行业背景与挑战 - 光刻技术是半导体制造关键环节，直接影响芯片性能与集成度，但国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品部分依赖进口，掩模版原料受制于人，光刻机技术与国际差距显著 [22] - 全球地缘政治加剧供应链风险，大会旨在推动产学研合作，加速技术转化，构建自主可控的产业生态 [23]

会议基本信息 - 会议名称：2025势银（第五届）光刻产业大会，将于2025年7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行 [1][16] - 主办单位：势银（TrendBank），协办单位深芯盟，承办单位势银芯链 [16] - 会议规模：300人，覆盖光刻产业链上下游企业、学术机构及投资机构 [16][22] 会议议程与内容 - **三大专场**： - 先进光刻技术（极紫外光刻/EUV、电子束光刻、纳米压印等） [14][17] - 光刻胶与湿电子化学品（国产化现状、技术瓶颈） [14][15] - 掩膜版与光刻设备（国产化关键问题与解决方案） [14][15] - **演讲嘉宾**：22家产学研单位参与，包括京东方、中科芯、复旦大学、南开大学、永光化学等，涵盖技术研发、产业化应用及市场分析 [1][6][7] - **圆桌论坛与晚宴**：促进产业链上下游互动 [7][17] 行业现状与挑战 - **光刻胶**：国内高端产品自给率低，性能与国际差距显著，PSPI光刻胶、纳米压印胶等研发进展为讨论重点 [6][7][22] - **湿电子化学品**：高纯度产品依赖进口，润晶科技等企业探讨关键技术突破 [7][22] - **光刻设备**：高端设备（如EUV）被国外垄断，国产化面临技术精度、光源系统等瓶颈 [22][23] - **掩膜版**：高精度制造技术受限，原料进口依赖度高 [22] 会议亮点与目标 - **产学研联动**：推动技术创新与成果转化，加速国产替代（如混合键合、导向自组装技术） [6][23][24] - **产业链协同**：搭建上下游企业对接平台，覆盖材料、设备、检测等环节（如安捷伦、中泰氢能参与） [7][15][22] - **学术研讨**：设置光刻技术理论基石议题，如复旦大学、张江实验室分享前沿研究 [6][17] 参会企业与机构 - **企业代表**：京东方、中芯国际、彤程新材料、长鑫存储等半导体制造与材料企业 [9][10][11] - **学术机构**：南开大学、复旦大学、中国科学院化学研究所等高校及研究所 [6][10][11] - **投资机构**：钧屋资本、朝希资本等关注光刻产业投资机会 [9][12] 会议费用与报名 - 早鸟价（6月30日前）：2600元/人，7月1日后调整为2800元/人，含会议资料、午餐及晚宴 [18] 行业背景与意义 - **战略重要性**：光刻技术是半导体制造的核心环节，直接决定芯片性能与成本 [22] - **自主可控需求**：全球地缘政治下，需提升光刻产业链安全性（如树脂产业化、绿色光刻胶ESG目标） [7][23][24] - **往届成果**：2024年会议聚焦"自主可控的光刻材料产业链新生态"，2025年延续创新驱动主题 [26]

会议概况 - 会议名称：2025势银光刻产业大会（第五届），简称PRIC，由势银（TrendBank）主办，深芯盟协办，势银芯链承办 [13][25] - 时间地点：2025年7月9日-10日于合肥新站利港喜来登酒店，规模300人 [6][13] - 会议形式：包含20+嘉宾演讲、三大专场（先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备）、学术研讨及会+展联动 [15][16][17] 核心议题与议程 - **先进光刻技术专场**：聚焦导向自组装图形化技术（李自力）、纳米压印/电子束/DSA技术（罗锋）、芯粒异构集成技术（王成迁）及2025年中国大陆光刻胶市场分析（应颖） [10] - **光刻胶与湿电子化学品专场**：涵盖PSPI光刻胶产业化（杜孟成）、硅基光刻胶研发（SamSun）、湿电子化学品关键技术（乔正收）及光刻胶树脂挑战（罗华星） [11] - **掩膜版与光刻装备专场**：讨论显示掩膜版趋势（清溢光电）、光刻设备国产化（王野）、光敏聚合物检测技术（朱晓群）及光刻气体应用（黎佳荣） [12] 行业背景与挑战 - **技术瓶颈**：国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品纯度不足，掩膜版原料依赖进口，EUV光刻机被国外垄断 [22] - **产业目标**：通过产学研合作提升自主可控能力，加速技术创新与成果转化，构建完整生态链应对供应链安全风险 [23] 参会嘉宾与机构 - **学术代表**：复旦大学李自力将分享导向自组装技术，其团队近五年发表论文34篇、授权专利2项，主持6项国家级项目 [7][4] - **企业参与**：京东方、中科芯、矽磐微电子、永光化学等产业链企业参与演讲，覆盖材料、设备、封装等环节 [10][11][12] 会议服务与费用 - **报名费用**：6月30日前2600元/人，7月1日后2800元/人，含会议资料、自助午餐及晚宴 [19] - **配套服务**：协议价酒店预订（合肥新站利港喜来登酒店），协议价需注明会议名称 [21] 往届与延续性 - 上届会议（2024年）主题为“创新驱动—构筑自主可控的光刻材料产业链新生态”，本届延续对国产化与技术突破的探讨 [25]

彤程新材 - 2024年半导体光刻胶业务营业收入同比增长50.43%，ArF光刻胶通过客户验证并开始上量产生营收，EBR等产品开始创收 [1] - 面板光刻胶业务同比增长26.8%，高分辨率OLED光刻胶及AMOLED Touch用低温光刻胶实现量产销售 [1] - 半导体光刻胶研发项目近50项，一半通过用户验证，部分进入小批量生产阶段 [2] - KrF光刻胶实现110nm分辨率突破，自研分级树脂I线光刻胶开发成功，推出多款厚膜先进封装用光刻胶 [2] - 显示面板光刻胶4-Mask高感度产品出货持续增加并扩展新客户，AMOLED高感度高分辨率光刻胶预计今年全面量产导入 [2] 艾森半导体 - 2024年光刻胶及配套试剂营收同比增长37.68%，先进封装负性光刻胶覆盖多家主流封装厂 [2] - 正性PSPI光刻胶获主流晶圆厂首个国产订单，打破美日企业技术垄断，实现进口替代 [2] - 晶圆ICA化学放大光刻胶客户端验证测试顺利，OLED高感光刻胶在客户端测试中 [2] - 与京东方在OLED领域达成战略合作 [2] - 布局负性PSPI和高感度化学放大型PSPI，推进产品认证工作，组建专家团队开发KrF光刻胶 [3] 上海新阳 - 建成I线、KrF、ArF干法、ArF浸没式光刻胶研发生产平台，部分品类已产业化，整体业绩同比增长超100% [4] - 多款KrF光刻胶实现批量销售，ArF浸没式光刻胶已取得销售订单 [4] - 加速提升I线、KrF、ArF高端光刻胶研发及产业化，开发3D NAND、DRAM及逻辑先进制程用高分辨率光刻胶 [5] - ArF浸没式光刻胶取得阶段性订单，批量多品类产品持续开发验证 [5] 南大光电 - 多款ArF产品通过客户验证，涵盖90-28nm技术节点逻辑和存储芯片，2024年光刻胶业务同比增长突破80% [5] - 宁波基地建设光刻胶创新中心，聚焦90nm以下300寸晶圆用高分辨率光刻胶研发 [6] - 推进光刻胶抗反射图层开发，布局14nm-7nm光刻胶技术，开发自生成隔水层ArF浸没式光刻胶 [6] 晶瑞电材 - 2024年光刻胶业务同比增长近30%，紫外宽普系列光刻胶稳居国内市场前二 [6] - i线光刻胶向中芯国际、长鑫存储、华虹半导体、晶合集成等企业供货，多款KrF光刻胶量产出货 [6] - 拥有完善I-line光刻胶研发检测平台，与中石化合作开发ArF高端光刻胶已送样验证 [7] - 布局无BARC制程KrF光刻胶、高深宽比KrF光刻胶、高分辨率浸没式ArF光刻胶等研发项目 [7] 行业动态 - 7月9日-10日合肥举办2025势银（第五届）光刻产业大会，探讨先进光刻技术、材料及设备最新进展 [9]