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创腾科技 总经理 曹凌霄确认演讲 |(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-07-02 15:04
会议概况 - 2025势银光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举办,规模300人,覆盖光刻技术、材料及设备全产业链[9][27][30] - 会议设置三大专场:先进光刻技术与产业发展、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻装备,包含20+嘉宾演讲及圆桌论坛[25][11][15][19] - 报名费用分两档:6月30日前2600元/人,7月1日后2800元/人,含会议资料、自助午餐及晚宴[28] 核心议题 - 聚焦极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术,探讨光刻胶、湿电子化学品、掩膜版的国产化瓶颈与解决方案[24] - 重点讨论光刻设备本土化挑战,包括研发工艺、性能提升及市场情况,涉及中科芯、复旦大学等机构的技术分享[12][20][24] - 创腾科技将展示"基于数据驱动的光刻胶材料智能创新平台",该平台已实现进口替代并拥有24项专利[5][6] 行业现状 - 国内高端光刻胶自给率低,湿电子化学品高纯度产品依赖进口,掩模版原料与光刻机(如EUV)被国外垄断[31] - 半导体供应链安全受地缘政治威胁,需加强产学研合作推动光刻技术自主可控,构建完整产业生态[32] 企业动态 - 创腾科技服务超千家用户,包括顶尖制药企业、CRO/CDMO及石化企业,提供数字化研发到智能创新的整体解决方案[7] - 参会企业涵盖鼎龙控股(PSPI材料)、永光化学(绿色光刻胶)、奥格流体(半导体装备)等产业链关键环节[15][16] 技术亮点 - 安捷伦将发布IC光刻胶多维分析新方法,甬江实验室分享混合键合技术在先进封装中的应用[14][16] - 久日新材料、凯诺中星等企业将探讨光刻胶国产化进展及市场分析[14][21]
倒计时7天!24位行业大咖共话光刻产业突围之道 | 2025势银(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-07-02 15:04
会议概况 - 2025势银(第五届)光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行,规模达300人[29][37] - 主办方为势银(TrendBank),协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟,承办方为势银芯链[29] - 会议采用"会+展"形式,设置三大专场:先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备[31][33] 参会企业与嘉宾 - 24家产学研单位确认参会并发表演讲,包括中科芯、鼎龙、波米科技、复旦大学、南开大学等[1][9][17] - 部分参会企业:安捷伦、久日新材、芯碁微、奥格流体、永光化学等,覆盖材料、设备、研究机构全产业链[14][18][23] - 报名企业超150家,包括中芯国际、京东方、3M中国、巴斯夫等跨国企业及国内龙头[22][23][24] 会议议程亮点 - **先进光刻技术专场**:聚焦芯粒异构集成技术、纳米压印/DSA技术、混合键合等前沿方向,演讲嘉宾来自中科芯、南开大学等[9][10][11] - **光刻胶与湿电子化学品专场**:探讨PSPI键合胶、CAR光刻胶、聚酰亚胺材料等国产化进展,鼎龙、星泰克、波米科技等企业分享[14][15] - **掩膜版与光刻装备专场**:分析光刻设备本土化机遇,芯东来、久日新材、芯碁微等讨论DUV光刻系统、激光直写设备产业化[17][18] 行业现状与挑战 - 国内高端光刻胶自给率低,湿电子化学品高纯度产品依赖进口,掩膜版原料受制于国外供应[40] - 光刻机被国外垄断,EUV光刻机获取困难,国内企业在光源系统、制造精度等方面存在技术差距[40] - 地缘政治加剧供应链风险,需加强产学研合作推动光刻技术自主可控[41] 会议目标与价值 - 促进光刻技术领域产学研用融合,加速技术创新与成果转化[41] - 搭建产业链对接平台,覆盖材料、设备、制造等300+行业参与者[29][31] - 通过学术研讨(如复旦大学、张江实验室专题)为产业提供理论基础[11][32] 会议服务与费用 - 6月30日前报名费用2600元/人,含会议资料、自助午餐及晚宴[35] - 协议酒店为合肥新站利港喜来登酒店,协议价需备注会议名称[37][38]
展商推荐丨莱克勒:全球领先的精密喷嘴及喷射系统公司 | 2025势银(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-07-01 13:38
行业背景与挑战 - 光刻技术是半导体制造的关键环节,其精度和效率直接影响芯片性能、集成度和生产成本,是推动半导体产业向高性能、小尺寸发展的核心力量[21] - 国内光刻产业面临多重挑战:高端光刻胶自给率低、湿电子化学品高纯度产品依赖进口、掩模版原料及修复技术受制于人、光刻机被国外垄断且EUV设备难以获取[21] - 全球地缘政治摩擦加剧半导体供应链安全风险,亟需提升光刻技术自主可控能力以构建完整产业生态[22] 2025势银光刻产业大会 - 会议定于2025年7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举办,规模300人,由势银主办、深圳市半导体与集成电路产业联盟协办[12] - 大会设置光刻胶与湿电子化学品专场、检测与装备专场,涵盖纳米压印胶研发、光刻材料体系发展、IC光刻胶表征等20余个议题[13][14][15] - 参会费用分两档:6月30日前2600元/人,7月1日后2800元/人,含会议资料、自助午餐及晚宴[20] 参会企业与机构 - 覆盖全产业链300+参会者,包括莱克勒喷嘴系统、鼎龙控股、安捷伦科技等设备商,江苏博砚电子、宁波天璇新材料等材料商,复旦大学、张江实验室等科研机构[16][17][18][19] - 企业高管占比超40%,如永光化学研发协理、湖北鼎龙副总裁、波米科技总经理等均参与演讲或圆桌论坛[13][14] 莱克勒公司信息 - 德国莱克勒集团成立于1879年,是全球领先的精密喷嘴及喷射系统制造商,产品应用于冶金、环保等领域,拥有14家海外子公司[1] - 中国子公司位于常州金坛区,为首个在华自有生产基地,业务涵盖喷嘴研发、生产及技术解决方案[1] - 将参与大会并展示其喷射系统在半导体光刻领域的应用潜力[1][3] 技术发展趋势 - 议题聚焦前沿方向:数据驱动的光刻胶智能创新平台、DUV光刻痕量有机物研究、先进绿色光刻胶ESG目标等体现行业技术升级趋势[14][15] - 国产化进程加速,天津久日新材料、潍坊星泰克等企业将分享光刻胶国产化实践与挑战[14][15]
永光化学 电子化学事业研发协理 黄新义确认演讲 |(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-07-01 13:38
会议核心信息 - 会议名称:2025势银(第五届)光刻产业大会,主题涵盖极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化进展 [12][22] - 会议时间地点:2025年7月9日-10日于合肥新站利港喜来登酒店举办,规模300人 [5][16] - 会议费用:6月30日前报名2600元/人,7月1日后2800元/人,含会议资料、自助午餐及晚宴 [17] 会议议程与亮点 - **三大专场**: - 先进光刻技术与产业发展(7月9日上午):涵盖芯粒异构集成、纳米压印/电子束技术、混合键合等议题 [9] - 光刻胶与湿电子化学品(7月9日下午):聚焦PSPI、CAR光刻胶、聚酰亚胺材料及ESG目标 [10] - 检测与装备(7月10日上午):讨论掩膜版、光刻设备国产化及光刻气体等 [11] - **学术研讨**:设置光刻技术学术主题,强化理论基础 [14] - **会+展形式**:提供产业链上下游对接平台 [15] 重点嘉宾与议题 - **黄新义(永光化学)**:分享“先进绿色光刻胶协助集成电路产业达成ESG目标”,永光化学研发人员230人,年研发投入超营收4%,累计专利190+篇 [7][10] - **其他嘉宾**: - 王成迁(中科芯)探讨高性能芯粒异构集成技术 [9] - 肖桂林(鼎龙控股)分析先进封装PSPI与键合胶趋势 [10] - 朱晓群(江苏集萃)研究DUV光刻系统中痕量有机物影响 [11] 行业背景与挑战 - **技术瓶颈**:国内高端光刻胶自给率低,湿电子化学品依赖进口,掩模版高精度制造及光刻机(如EUV)被国外垄断 [20] - **产业目标**:通过大会促进产学研合作,加速技术转化,构建自主可控产业链以应对地缘政治风险 [21] 主办方与协办单位 - 主办方为势银(TrendBank),协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟,承办方为势银芯链 [16]
大基金三期或重点投向:国产光刻机研发和芯片设计EDA工具
势银芯链· 2025-07-01 13:38
国家集成电路产业投资基金第三期调整 - 大基金三期注册资本达3440亿元,重点投向高附加值DRAM芯片(如HBM)、人工智能芯片、先进半导体设备(如光刻机)和半导体材料(如光刻胶)[1] - 调整后资金将重点投入国产光刻机研发和芯片设计EDA工具,以降低对ASML、Cadence等海外厂商的依赖[2] - 大基金三期旨在解决国产半导体设备和材料的研发与生产问题,加快突破"卡脖子"环节[1][2] 半导体产业现状 - 美国收紧对中国高端芯片、EDA工具、光刻设备及材料的出口管制,EDA三大巨头5月底直接对华被禁[2] - 全球地缘政治摩擦加剧,半导体产业供应链安全受到严重威胁,急需加强光刻技术及相关产业的自主可控能力[5] - 业内分析指出,要在短期内完全替代海外技术仍存在显著难度[2] 2025势银光刻产业大会 - 会议将于2025年7月9日-10日在合肥举办,聚焦先进光刻技术、光刻材料及设备的最新进展[5] - 大会设置三个专场:先进光刻技术与产业发展、光刻胶与湿电子化学品、检测与装备[7][8][9] - 会议将汇聚国内光刻技术领域的专家学者、企业代表、行业精英,共同探讨面临的挑战及解决方案[5] 大基金历史数据 - 大基金首期规模1387亿元,二期增至2041.5亿元,主要投资于芯片制造、设计、封测等关键环节[1] - 自2014年首期基金成立以来,已成功推动我国集成电路产业快速发展[1]
安捷伦科技 资深液质工程师 马浩确认演讲 |(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-06-30 15:07
会议概述 - 2025势银光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举办,主题聚焦光刻技术、材料及设备的国产化与创新 [18] - 会议规模300人,包含20+产业链嘉宾演讲、三大专场(先进光刻技术/光刻胶与湿电子化学品/掩膜版与光刻设备)及学术研讨环节 [15][16] - 采用"会+展"形式构建产业互动平台,提供上下游供应链对接机会 [17] 核心议题 - 极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术进展与应用前景 [14] - 光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈突破 [14] - 光刻设备国产化进程中的研发、制造工艺及市场挑战 [14] 重点演讲内容 - 安捷伦科技将分享《IC光刻胶表征新趋势与安捷伦多维分析方案》,其2024财年营收65.1亿美元 [7] - 中科芯集成电路探讨高性能芯粒异构集成技术的机遇与挑战 [10] - 势银分析师发布《2025年中国大陆光刻胶市场分析》报告 [10] 行业背景 - 中国光刻产业面临高端光刻胶自给率低、湿电子化学品进口依赖、掩模版制造技术落后等瓶颈 [22] - 光刻机领域存在EUV设备获取困难、光源系统等技术差距显著的"卡脖子"问题 [22] - 地缘政治摩擦加剧背景下,构建自主可控的产业生态成为迫切需求 [23] 会议亮点 - 设置圆桌论坛和产学研用对接环节,加速技术创新成果转化 [10][11][23] - 涵盖从材料(如酚醛树脂国产化)到装备(激光直写设备产业化)的全产业链讨论 [11][12] - 首次纳入ESG目标议题,探讨绿色光刻胶助力集成电路可持续发展 [11]
鼎龙股份 副总裁 肖桂林确认演讲 |(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-06-30 15:07
会议概况 - 会议名称为2025势银(第五届)光刻产业大会,由势银(TrendBank)主办,深圳市半导体与集成电路产业联盟协办,将于2025年7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举办,规模300人 [14][26] - 会议设置三大专场:先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备,覆盖全产业链 [15] - 采用"会+展"形式,包含20+产业链嘉宾演讲、学术研讨及圆桌论坛,提供上下游对接平台 [13][16][17] 核心议题与技术方向 - 聚焦极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术,探讨光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化瓶颈与解决方案 [12] - 鼎龙股份副总裁肖桂林将发表《先进封装PSPI与键合胶的开发和应用趋势》主题报告,其团队已实现该领域进口替代并打破国外垄断 [4][8] - 其他关键技术议题包括:混合键合在异构封装中的应用、导向自组装图形化技术、光刻胶单体制备质量控制等 [7][9] 行业背景与挑战 - 光刻技术是半导体制造的核心环节,但国内在高端光刻胶自给率(低于国际水平)、湿电子化学品纯度、掩模版原料及光刻机精度等方面仍受制于国外 [23] - 地缘政治加剧供应链风险,需通过产学研合作提升自主可控能力,大会旨在加速技术转化与生态构建 [25] 参会企业与专家 - 鼎龙股份(300054 SZ)作为国家高新技术企业,在集成电路材料领域实现10余种"卡脖子"材料国产化,肖桂林博士团队拥有23项国际国内专利 [4] - 其他参与方包括中科芯、南开大学、安捷伦科技、永光化学等产业链上下游机构,涵盖材料、设备、检测全环节 [7][8][9] 会议议程与亮点 - 7月9日上午为先进光刻技术专场,下午聚焦光刻胶与湿电子化学品;7月10日开展检测与装备专题研讨 [7][8][9] - 设置圆桌论坛和全体晚宴,提供协议价酒店预订(合肥新站利港喜来登酒店协议价) [17][22][24] 主办方信息 - 势银(TrendBank)是中国领先的产业研究数据公司,提供研究、咨询及会议服务,其工商注册实体为宁波膜智信息科技有限公司 [1][34]
圣泉集团 研发总监 罗华星确认演讲 |(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-06-27 16:22
会议核心内容 - 2025势银光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举办,主题涵盖极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术及光刻胶、湿电子化学品等材料的国产化进程 [6][16][19] - 会议设置三大专场:先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备,覆盖全产业链,预计规模300人 [17][19] - 圣泉集团研发总监罗华星将发表《光刻胶用酚醛树脂的国产化进程》主题报告,其主导项目入选2024年山东省新材料创新应用示范项目 [4][8][9] 会议议程亮点 - 7月9日上午专场聚焦高性能芯粒异构集成技术、纳米压印/电子束/DSA技术方向及混合键合应用,演讲嘉宾包括中科芯、南开大学等机构专家 [12] - 下午专场探讨CAR光刻胶、聚酰亚胺材料、IC光刻胶表征等议题,安捷伦科技、永光化学等企业参与分享 [13] - 7月10日议程涉及掩膜版产业、光刻设备本土化、光敏聚合物检测等,天津久日新材料、上海芯东来半导体等企业代表出席 [14] 行业背景与挑战 - 中国光刻产业面临高端光刻胶自给率低、湿电子化学品进口依赖、掩模版原料受制于人及光刻机技术差距等"卡脖子"问题 [24] - 半导体供应链安全受地缘政治影响,需通过产学研合作加速技术创新,构建自主可控的产业生态体系 [25][26] 参会企业及技术成果 - 圣泉集团为全球秸秆综合利用引领者,主导产品呋喃树脂和酚醛树脂产销规模全球第一,参与神舟飞船、核电站等国家级项目 [8] - 宁波天璇新材料将分享纳米压印胶光刻胶研发进展,河北凯诺中星探讨光刻胶材料开发难点 [12][13] 会议形式与报名 - 采用"会+展"模式,提供产业链对接平台,早鸟报名费2600元/人(6月30日前),含会议资料及餐饮 [20] - 上届会议聚焦"自主可控的光刻材料产业链新生态",本届延续创新驱动主题 [28]
展商推荐丨沉汇仪器:高端材料领域设备供应商 | 2025势银(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-06-27 16:22
2025势银光刻产业大会 - 会议将于2025年7月9日-10日在安徽合肥新站利港喜来登酒店举办,规模300人 [16] - 主办单位为势银(TrendBank),协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟,承办单位为势银芯链 [16] - 会议议程包含光刻胶与湿电子化学品专场、检测与装备专场等多个技术主题 [17][18][19] - 报名费用为2600元/人(6月30日前)或2800元/人(7月1日后),含会议资料、自助午餐和晚宴 [25] 光刻产业现状与挑战 - 光刻技术是半导体制造关键环节,直接影响芯片性能和生产成本 [26] - 国内高端光刻胶自给率低,研发生产技术与国际先进水平存在差距 [26] - 湿电子化学品部分高纯度产品依赖进口,掩模版原料主要依赖进口 [26] - 高端光刻机被国外垄断,国内企业在技术水平等方面存在较大差距 [26] 会议目的与意义 - 旨在汇聚专家学者、企业代表探讨先进光刻技术、材料及设备的最新进展 [27] - 促进产学研用深度融合,加速技术创新和成果转化 [27] - 为产业链上下游企业搭建沟通桥梁,构建完整产业生态体系 [27] - 提升光刻产业整体竞争力,应对全球地缘政治摩擦带来的供应链安全挑战 [27] 参会企业与机构 - 参会企业包括上海沉汇仪器、安捷伦科技、中芯国际、京东方等300余家 [20][21][22][23][24] - 参会人员涵盖研发工程师、销售经理、投资经理等多个职位 [20][21][22][23][24] - 高校与研究机构包括复旦大学、南开大学、中科院化学研究所等 [17][18][19][23] 上海沉汇仪器有限公司 - 公司在高端材料领域积累资深经验,包括Arf/Krf光刻胶、光刻胶树脂等产品 [1] - 与韩国、日本、美国和国内资深研发工程师有亲密合作,可提供实验室全套设备 [2] - 工程师均受原厂培训,可独立进行设备安装、调试、维护和校正 [3] - 公司官网为www.chen-hui.com,地址位于上海市闵行区中春路 [5]
24位大咖演讲,超200家光刻产业链企业相聚合肥 | 2025势银(第五届)光刻产业大会(PRIC 2025)
势银芯链· 2025-06-27 16:22
会议基本信息 - 会议名称:2025势银(第五届)光刻产业大会,主办单位为势银(TrendBank),协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟,承办单位为势银芯链 [13] - 会议时间:2025年7月9日-10日,地点为安徽合肥新站利港喜来登酒店 [13] - 会议形式为“会+展”,包含主题演讲、细分专题互动、学术研讨及产业链对接 [15][16][17] 会议议程与演讲内容 - 上午专场聚焦先进光刻技术,包括纳米压印/电子束/DSA技术、混合键合应用、导向自组装图形化技术等,演讲嘉宾来自中科芯、南开大学、甬江实验室等 [6] - 下午专场覆盖光刻胶与湿电子化学品,议题涉及CAR光刻胶、聚酰亚胺材料、光刻胶表征分析等,演讲企业包括鼎龙、星泰克、安捷伦等 [6][7] - 次日议程围绕检测与装备,讨论掩膜版产业、半导体光刻设备本土化等,参与方含清溢光电、芯东来半导体等 [7] 参会企业与机构 - 24家产学研单位确认参会并演讲,包括中科芯、复旦大学、张江实验室、永光化学、圣泉集团等头部企业及高校 [1][6][7] - 报名名单涵盖产业链上下游超150家机构,如中芯国际、京东方、3M China、巴斯夫等,涉及研发、销售、投资等多岗位 [8][9][10][11][12] 行业核心议题 - 技术方向:极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术进展与应用前景 [14] - 材料瓶颈:光刻胶、湿电子化学品国产化现状与技术难点,如高端产品自给率低、纯度不足等 [14][22] - 设备挑战:光刻机本土化研发的关键问题,包括制造精度、光源系统与国际差距 [22] 会议目标与行业背景 - 旨在通过产学研合作提升光刻技术自主可控能力,应对全球供应链安全威胁 [23] - 当前国内光刻产业面临高端材料依赖进口、设备“卡脖子”等挑战,需加速技术转化与生态整合 [22][23] 会议亮点 - 设置三大专场覆盖全产业链,提供20+嘉宾演讲及圆桌论坛 [15] - 学术研讨聚焦光刻技术理论基础,推动产业创新 [16] 会议费用与配套服务 - 早鸟价2600元/人(6月30日前),含会议资料、自助午餐及晚宴 [19] - 协议酒店为合肥新站利港喜来登酒店,提供专属预订渠道 [21]