会议概况 - 2025势银（第五届）光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行，聚焦光刻技术、材料及设备国产化议题 [1][14][15] - 会议规模300人，设置三大专场（先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备）及学术研讨环节，覆盖全产业链 [15][16][17] - 24家产学研单位确认参会，包括京东方、中科芯、鼎龙、波米科技、复旦大学等，涵盖技术研发、材料生产、设备制造等环节 [1][6][7] 核心议题 - **技术方向**：探讨极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，以及混合键合、导向自组装图形化等先进封装工艺 [6][14][26] - **材料瓶颈**：分析光刻胶（CAR、聚酰亚胺）、湿电子化学品、掩膜版的技术难点与国产化进展，涉及树脂产业化、纯度标准等 [7][14][24] - **设备挑战**：聚焦半导体光刻设备本土化（如激光直写设备）、光刻气体应用、检测技术等产业化问题 [8][14][24] 参会企业与机构 - **产业链覆盖**：参会企业包括材料商（永光化学、圣泉集团）、设备商（芯东来半导体）、检测机构（上海市计量技术研究院）及高校（南开大学、复旦大学） [6][7][9][10] - **关键职位**：超80家机构代表参会，涵盖研发总监（矽磐微电子）、总经理（天璇新材料）、教授（凯诺中星）等核心决策者 [9][10][11][12][13] 行业背景与目标 - **国产化痛点**：国内高端光刻胶自给率低、湿电子化学品纯度不足、掩膜版原料依赖进口，光刻机技术差距显著 [24][26] - **大会价值**：推动产学研合作，加速技术转化，构建供应链安全生态，应对地缘政治风险 [26][27] 会议议程亮点 - **主题演讲**：包括京东方"低成本纳米压印技术"、中科芯"TFT-LCD光刻胶技术"、势银"2025年中国大陆光刻胶市场分析" [6][7] - **圆桌论坛**：设置产业生态讨论环节，晚宴提供深度交流机会 [7][18] 往届与主办方 - 上届会议（2024年）以"光刻材料自主可控"为主题，本届延续技术突破与产业链协同主线 [28] - 主办方势银（TrendBank）为国内知名产业研究机构，提供数据、咨询及会议服务 [35][36]

半导体掩膜版行业现状 - 全球半导体掩膜版市场以晶圆厂或IDM厂自主消化为主，中低端产品外包给独立第三方厂商 [1] - 中国大陆厂商量产半导体掩膜版工艺节点集中在350nm-130nm，90nm及以下工艺节点参与厂商较少 [1] - 中国半导体掩膜版国产化率约10%，高端掩膜版国产化率仅3%，90%依赖进口 [1] 龙图光罩 经营能力 - 2024年营收来自深圳工厂现有产能，珠海募投项目快速推进 [4] - 产品应用于功率半导体、MEMS传感器、IC封装、模拟芯片等特色工艺 [4] - 石英掩膜版收入占比从2023年78.79%提升至2024年81.31%，苏打掩膜版收入稳定 [4] - 产品销量同比增长6.31%，全年营收同比增长12.92% [4] 产品能力 - 130nm以上制程节点产品达到国际一线水平，正逐步替代境外厂商市场份额 [5] - 已实现130nm工艺节点量产，更高制程节点PSM产品研发成功并送客户验证 [5] 清溢光电 经营能力 - 2024年平板显示掩膜版业绩同比增长17.59%，AMOLED/LTPS营收同比增长21.75% [5] - 半导体芯片掩膜版营收同比增长33.98%，通过技术能力提升和产能优化推动业务发展 [5] 产品能力 - 已量产8.6代高精度TFT用掩膜版、6代AMOLED/LTPS掩膜版及中高端HTM产品 [6] - 实现180nm工艺节点量产，150nm小规模量产，推进130nm-65nm及28nm工艺开发 [6] 路维光电 经营能力 - 2024年营收同比增长30.21%，OLED用掩膜版带动平板显示业务增长 [6] - 先进封装掩膜版成为第二成长曲线，成为下游封测厂头部供应商 [6] 产品能力 - 国内唯一全面配套G2.5-G11面板产线的本土企业，覆盖全显示技术 [8] - 实现180nm制程节点量产，掌握150nm/130nm核心技术，覆盖第三代半导体 [8] - 投资建设130-28nm半导体掩膜版项目 [8] 行业会议 - 2025势银光刻产业大会将于7月9日-10日在合肥举办，聚焦先进光刻技术、材料及设备 [10]

会议概况 - 会议名称：2025势银光刻产业大会，主办单位为势银（TrendBank），协办单位为深圳市半导体与集成电路产业联盟，承办单位为势银芯链 [17] - 会议时间：2025年7月9日-10日，地点在安徽合肥新站利港喜来登酒店，规模约300人 [5][17] - 会议费用：6月30日前报名2600元/人，7月1日后2800元/人，含会议资料、自助午餐及晚宴 [18] 会议内容与亮点 - 讨论内容涵盖极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，以及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈 [14] - 设置三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备，覆盖全产业链 [15] - 20+产业链嘉宾演讲，包括学术研讨环节，聚焦光刻技术理论与研发 [15][16] 重点企业及嘉宾 - 波米科技总经理杜孟成将分享《先进封装聚酰亚胺材料及其发展趋势》，该公司是国家高新技术企业，研发投入强度超40%，研发人员占比70%，拥有60余项国家发明专利，率先实现集成电路封装用PSPI国产化量产 [7] - 其他参会企业包括中科芯、京东方、南开大学、矽磐微电子等，涉及光刻胶、湿电子化学品、检测装备等细分领域 [10][11][12] 行业背景与挑战 - 光刻技术是半导体制造关键环节，直接影响芯片性能与集成度，但国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品部分依赖进口，掩模版原料受制于人，光刻机技术与国际差距显著 [22] - 全球地缘政治加剧供应链风险，大会旨在推动产学研合作，加速技术转化，构建自主可控的产业生态 [23]

会议概况 - 会议名称：2025势银光刻产业大会（第五届），简称PRIC，由势银（TrendBank）主办，深芯盟协办，势银芯链承办 [13][25] - 时间地点：2025年7月9日-10日于合肥新站利港喜来登酒店，规模300人 [6][13] - 会议形式：包含20+嘉宾演讲、三大专场（先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备）、学术研讨及会+展联动 [15][16][17] 核心议题与议程 - **先进光刻技术专场**：聚焦导向自组装图形化技术（李自力）、纳米压印/电子束/DSA技术（罗锋）、芯粒异构集成技术（王成迁）及2025年中国大陆光刻胶市场分析（应颖） [10] - **光刻胶与湿电子化学品专场**：涵盖PSPI光刻胶产业化（杜孟成）、硅基光刻胶研发（SamSun）、湿电子化学品关键技术（乔正收）及光刻胶树脂挑战（罗华星） [11] - **掩膜版与光刻装备专场**：讨论显示掩膜版趋势（清溢光电）、光刻设备国产化（王野）、光敏聚合物检测技术（朱晓群）及光刻气体应用（黎佳荣） [12] 行业背景与挑战 - **技术瓶颈**：国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品纯度不足，掩膜版原料依赖进口，EUV光刻机被国外垄断 [22] - **产业目标**：通过产学研合作提升自主可控能力，加速技术创新与成果转化，构建完整生态链应对供应链安全风险 [23] 参会嘉宾与机构 - **学术代表**：复旦大学李自力将分享导向自组装技术，其团队近五年发表论文34篇、授权专利2项，主持6项国家级项目 [7][4] - **企业参与**：京东方、中科芯、矽磐微电子、永光化学等产业链企业参与演讲，覆盖材料、设备、封装等环节 [10][11][12] 会议服务与费用 - **报名费用**：6月30日前2600元/人，7月1日后2800元/人，含会议资料、自助午餐及晚宴 [19] - **配套服务**：协议价酒店预订（合肥新站利港喜来登酒店），协议价需注明会议名称 [21] 往届与延续性 - 上届会议（2024年）主题为“创新驱动—构筑自主可控的光刻材料产业链新生态”，本届延续对国产化与技术突破的探讨 [25]

会议基本信息 - 会议名称：2025势银（第五届）光刻产业大会，将于2025年7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行 [1][16] - 主办单位：势银（TrendBank），协办单位深芯盟，承办单位势银芯链 [16] - 会议规模：300人，覆盖光刻产业链上下游企业、学术机构及投资机构 [16][22] 会议议程与内容 - **三大专场**： - 先进光刻技术（极紫外光刻/EUV、电子束光刻、纳米压印等） [14][17] - 光刻胶与湿电子化学品（国产化现状、技术瓶颈） [14][15] - 掩膜版与光刻设备（国产化关键问题与解决方案） [14][15] - **演讲嘉宾**：22家产学研单位参与，包括京东方、中科芯、复旦大学、南开大学、永光化学等，涵盖技术研发、产业化应用及市场分析 [1][6][7] - **圆桌论坛与晚宴**：促进产业链上下游互动 [7][17] 行业现状与挑战 - **光刻胶**：国内高端产品自给率低，性能与国际差距显著，PSPI光刻胶、纳米压印胶等研发进展为讨论重点 [6][7][22] - **湿电子化学品**：高纯度产品依赖进口，润晶科技等企业探讨关键技术突破 [7][22] - **光刻设备**：高端设备（如EUV）被国外垄断，国产化面临技术精度、光源系统等瓶颈 [22][23] - **掩膜版**：高精度制造技术受限，原料进口依赖度高 [22] 会议亮点与目标 - **产学研联动**：推动技术创新与成果转化，加速国产替代（如混合键合、导向自组装技术） [6][23][24] - **产业链协同**：搭建上下游企业对接平台，覆盖材料、设备、检测等环节（如安捷伦、中泰氢能参与） [7][15][22] - **学术研讨**：设置光刻技术理论基石议题，如复旦大学、张江实验室分享前沿研究 [6][17] 参会企业与机构 - **企业代表**：京东方、中芯国际、彤程新材料、长鑫存储等半导体制造与材料企业 [9][10][11] - **学术机构**：南开大学、复旦大学、中国科学院化学研究所等高校及研究所 [6][10][11] - **投资机构**：钧屋资本、朝希资本等关注光刻产业投资机会 [9][12] 会议费用与报名 - 早鸟价（6月30日前）：2600元/人，7月1日后调整为2800元/人，含会议资料、午餐及晚宴 [18] 行业背景与意义 - **战略重要性**：光刻技术是半导体制造的核心环节，直接决定芯片性能与成本 [22] - **自主可控需求**：全球地缘政治下，需提升光刻产业链安全性（如树脂产业化、绿色光刻胶ESG目标） [7][23][24] - **往届成果**：2024年会议聚焦"自主可控的光刻材料产业链新生态"，2025年延续创新驱动主题 [26]

彤程新材 - 2024年半导体光刻胶业务营业收入同比增长50.43%，ArF光刻胶通过客户验证并开始上量产生营收，EBR等产品开始创收 [1] - 面板光刻胶业务同比增长26.8%，高分辨率OLED光刻胶及AMOLED Touch用低温光刻胶实现量产销售 [1] - 半导体光刻胶研发项目近50项，一半通过用户验证，部分进入小批量生产阶段 [2] - KrF光刻胶实现110nm分辨率突破，自研分级树脂I线光刻胶开发成功，推出多款厚膜先进封装用光刻胶 [2] - 显示面板光刻胶4-Mask高感度产品出货持续增加并扩展新客户，AMOLED高感度高分辨率光刻胶预计今年全面量产导入 [2] 艾森半导体 - 2024年光刻胶及配套试剂营收同比增长37.68%，先进封装负性光刻胶覆盖多家主流封装厂 [2] - 正性PSPI光刻胶获主流晶圆厂首个国产订单，打破美日企业技术垄断，实现进口替代 [2] - 晶圆ICA化学放大光刻胶客户端验证测试顺利，OLED高感光刻胶在客户端测试中 [2] - 与京东方在OLED领域达成战略合作 [2] - 布局负性PSPI和高感度化学放大型PSPI，推进产品认证工作，组建专家团队开发KrF光刻胶 [3] 上海新阳 - 建成I线、KrF、ArF干法、ArF浸没式光刻胶研发生产平台，部分品类已产业化，整体业绩同比增长超100% [4] - 多款KrF光刻胶实现批量销售，ArF浸没式光刻胶已取得销售订单 [4] - 加速提升I线、KrF、ArF高端光刻胶研发及产业化，开发3D NAND、DRAM及逻辑先进制程用高分辨率光刻胶 [5] - ArF浸没式光刻胶取得阶段性订单，批量多品类产品持续开发验证 [5] 南大光电 - 多款ArF产品通过客户验证，涵盖90-28nm技术节点逻辑和存储芯片，2024年光刻胶业务同比增长突破80% [5] - 宁波基地建设光刻胶创新中心，聚焦90nm以下300寸晶圆用高分辨率光刻胶研发 [6] - 推进光刻胶抗反射图层开发，布局14nm-7nm光刻胶技术，开发自生成隔水层ArF浸没式光刻胶 [6] 晶瑞电材 - 2024年光刻胶业务同比增长近30%，紫外宽普系列光刻胶稳居国内市场前二 [6] - i线光刻胶向中芯国际、长鑫存储、华虹半导体、晶合集成等企业供货，多款KrF光刻胶量产出货 [6] - 拥有完善I-line光刻胶研发检测平台，与中石化合作开发ArF高端光刻胶已送样验证 [7] - 布局无BARC制程KrF光刻胶、高深宽比KrF光刻胶、高分辨率浸没式ArF光刻胶等研发项目 [7] 行业动态 - 7月9日-10日合肥举办2025势银（第五届）光刻产业大会，探讨先进光刻技术、材料及设备最新进展 [9]

会议概况 - 会议名称：2025势银光刻产业大会，第五届举办，主题聚焦光刻技术、材料及设备国产化[9][23] - 时间地点：2025年7月9日-10日，合肥新站利港喜来登酒店，规模300人[11][19] - 会议形式：三大专场（先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备）+学术研讨+会展结合[12][13][14] - 主办方：势银（TrendBank），协办方深芯盟，承办方势银芯链[11][35] 核心议题与演讲内容 - **先进光刻技术专场**：涵盖EUV、电子束光刻、纳米压印技术，演讲包括合肥晶圆厂的先进制程突破、京东方TFT-LCD光刻胶技术、复旦大学导向自组装图形化技术等[6][9] - **光刻胶与湿电子化学品专场**：讨论BARC/TARC应用、PSPI光刻胶产业化、硅基光刻胶研发，涉及彤程新材、波米科技等企业[7] - **掩膜版与光刻装备专场**：分析掩膜版产业趋势、光刻设备国产化挑战，上海芯东来半导体等企业参与[8] - 特邀嘉宾：上海市计测院李春华分享光刻配套试剂检测与超净实验室运营，其团队在湿电子化学品等领域通过CNAS/CMA认证[3][4] 行业背景与挑战 - 光刻技术是半导体制造核心环节，但国内面临高端光刻胶自给率低、湿电子化学品纯度不足、掩膜版原料依赖进口、光刻机被国外垄断等"卡脖子"问题[20] - 全球地缘政治加剧供应链风险，需通过产学研合作提升自主可控能力，大会旨在促进技术交流与产业链协同[22] 参会企业与产业链覆盖 - 拟邀企业覆盖全产业链：上游原料（东京应化、富士胶片）、中游光刻胶（彤程新材、北京科华）、下游晶圆厂（中芯国际、长江存储）[24][25][26] - 湿电子化学品及特种气体企业包括德国巴斯夫、江化微、南大光电等[25][26] 会议服务与费用 - 报名费用：6月30日前2600元/人，7月1日后2800元/人，含会议资料、自助午餐及晚宴[14] - 酒店协议价：合肥新站利港喜来登酒店，报会议名称可享优惠[21] 主办方信息 - 势银（TrendBank）定位为中国领先产业研究与数据公司，提供数据、咨询及会议服务，工商注册实体为宁波膜智信息科技有限公司[1][35]

会议概况 - 会议名称：2025势银光刻产业大会，聚焦光刻技术、材料及设备国产化与产业升级 [12][16] - 时间地点：2025年7月9日-10日于合肥新站利港喜来登酒店，规模300人 [5][16] - 报名费用：6月30日前2600元/人，7月1日后2800元/人，含会议资料、自助午餐及晚宴 [17] 会议内容与亮点 - **三大专场**： - 先进光刻技术专场：涵盖EUV、电子束光刻、纳米压印等技术进展 [9][12] - 光刻胶与湿电子化学品专场：讨论BARC、PSPI光刻胶等材料国产化 [10][12] - 掩膜版与光刻设备专场：分析显示掩膜版趋势及光刻设备国产化挑战 [11][12] - **学术研讨**：设置光刻技术学术主题，推动产学研融合 [14] - **会+展形式**：提供产业链上下游对接平台，覆盖光刻胶、湿电子化学品、特种气体等全产业链 [15][23][25] 重点演讲与嘉宾 - **主题演讲**： - 杭州中泰氢能科技总经理黎佳荣分享《光刻气体应用与中国稀有气体产业发展》，聚焦电子特气国产化 [6][11] - 京东方LCD开发中心部长汪栋探讨TFT-LCD光刻胶技术 [9] - 华睿芯材总经理胡杨介绍全球首款高耐刻蚀电子束光刻胶 [9] - **其他演讲**：包括复旦大学副研究员李自力谈导向自组装光刻工艺、南开大学教授罗锋分析纳米压印技术等 [9][10] 行业背景与挑战 - **技术瓶颈**：国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品纯度不足，掩膜版原料依赖进口，EUV光刻机被国外垄断 [20] - **国产化需求**：地缘政治下需加强供应链自主可控，推动光刻技术研发与产业生态构建 [21] 参与企业 - **全产业链覆盖**：拟邀企业包括彤程新材、京东方、中芯国际、上海微电子等，涉及光刻胶、湿电子化学品、特种气体、掩膜版及设备领域 [23][25][26] 主办方信息 - 主办单位势银（TrendBank）为产业研究与数据公司，提供会议、咨询等服务 [32]

会议核心内容 - 会议聚焦光刻技术产业链，涵盖极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，以及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈 [11] - 会议旨在通过产学研用融合，推动国内光刻技术自主创新，解决高端光刻胶、湿电子化学品、掩膜版和光刻机等领域的"卡脖子"问题 [19][20] - 会议设置三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备，覆盖全产业链 [12] 会议亮点 - 20+光刻产业链嘉宾演讲，包括京东方、复旦大学、甬江实验室等机构专家 [7][8][9] - 学术研讨环节聚焦光刻技术理论基础，如导向自组装光刻工艺、混合键合技术等 [7][13] - 采用"会+展"形式，提供上下游供应链对接平台 [15] 会议议程 7月9日上午（先进光刻技术专场） - 主题包括：AI时代先进制程突破、TFT-LCD光刻胶技术、纳米压印/电子束/DSA技术方向、混合键合在异构集成中的应用 [7] - 演讲嘉宾来自合肥晶圆厂、京东方、南开大学、甬江实验室等 [7] 7月9日下午（光刻胶与湿电子化学品专场） - 议题涵盖：BARC/TARC应用、PSPI光刻胶产业化、硅基光刻胶开发、湿电子化学品关键技术 [8] - 参与企业包括彤程新材、永光化学、河北凯诺中星等 [8] 7月10日上午（掩膜版与光刻装备专场） - 讨论内容涉及显示掩膜版趋势、光刻设备中国机遇、涂胶显影设备产业化、光刻气体应用等 [9] - 演讲方包括深圳清溢光电、上海芯东来半导体、杭州中泰氢能等 [9] 参会机构与产业链覆盖 - 拟邀企业覆盖光刻胶产业链（东京应化、住友化学等）、湿电子化学品（德国巴斯夫、江化微等）、掩膜版（清溢光电、龙图光罩等）及设备（上海微电子、奥格流体等） [22][23][24] - 甬江实验室微纳平台作为重要参会方，拥有6/8英寸研发线及165台/套高端设备，专注光学器件与异构集成技术 [5] 会议基本信息 - 时间：2025年7月9日-10日 - 地点：合肥新站利港喜来登酒店 - 规模：300人 - 费用：早鸟价2600元/人（6月30日前），正常价2800元/人 [14][15] 行业背景 - 光刻技术是半导体制造核心环节，国内面临高端光刻胶自给率低、掩膜版原料依赖进口、EUV光刻机被垄断等挑战 [19] - 甬江实验室等机构正推动微纳光学与芯片异构集成技术研发，其8英寸验证线可支持高精度对准、低温键合等工艺 [5]

会议概况 - 会议名称为"2025势银光刻产业大会"，由势银(TrendBank)主办，深芯盟协办，势银芯链承办，将于2025年7月9日-10日在合肥新站利港喜来登酒店举行，规模300人 [15] - 会议聚焦光刻产业链，涵盖极紫外光刻(EUV)、电子束光刻、纳米压印等前沿技术，以及光刻胶、湿电子化学品、掩膜版等材料的国产化现状与技术瓶颈 [13] - 会议设置三大专场：先进光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、掩膜版与光刻设备，覆盖全产业链 [14] 会议议程 - 7月9日上午为先进光刻技术与产业发展专场，包括合肥长鑫、京东方、南开大学等机构的主题演讲，内容涉及TFT-LCD光刻胶技术、纳米压印技术等 [10] - 7月9日下午为光刻胶与湿电子化学品专场，包括势银分析师对中国大陆光刻胶市场的分析，以及彤程新材、波米科技等企业的技术分享 [11] - 7月10日上午为掩膜版与光刻装备专场，涵盖显示掩膜版产业、半导体光敏聚合物研发等议题 [12] 参会企业与嘉宾 - 拟邀企业覆盖光刻产业链上下游，包括东京应化、住友化学、陶氏杜邦等国际巨头，以及中芯国际、华虹宏力、京东方等国内企业 [24][25] - 江苏集萃光敏电子材料研究所总经理朱晓群将分享"半导体光敏聚合物研发及产业化检测技术挑战"主题报告 [1][4][6] - 朱晓群博士主导研发多款KrF树脂、光伏树脂，已通过测试并批量供货，主持国家级项目30多项，获中国感光学会科技进步一等奖 [7] 行业背景与挑战 - 光刻技术是半导体制造的关键环节，直接影响芯片性能与生产成本，但目前国内高端光刻胶自给率低，湿电子化学品部分依赖进口，掩模版原料主要来自国外 [21] - 光刻机领域被国外垄断，国内企业在技术水平、制造精度等方面与国际先进水平存在差距，成为"卡脖子"环节 [21] - 全球地缘政治摩擦加剧背景下，需加强光刻技术自主可控能力，通过产学研合作推动技术创新与产业升级 [22] 公司动态 - 江苏集萃光敏电子材料研究所成立于2021年6月，由江苏省产业技术研究院等三方共同投资设立，专注于光刻胶原材料及工艺装备研发 [7] - 公司2023年获批高新技术企业，加入"集成电路光刻胶产业创新联盟"，数款KrF光刻胶树脂已通过客户测试并实现小批量销售 [8] - 公司在泰兴市成立江苏集萃聚合新材料有限公司，专注光刻胶树脂产业化建设 [8] 会议亮点 - 设置20+光刻产业链嘉宾演讲，涵盖主题演讲与细分专题互动 [14] - 采用"会+展"形式，构建产业互动平台，促进上下游供应链对接 [17] - 包含学术研讨环节，聚焦光刻技术理论与研发，为产业发展提供基石 [16]