拓荆科技(688072)

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拓荆科技(688072) - 上海荣正企业咨询服务(集团)股份有限公司关于拓荆科技股份有限公司2025年限制性股票激励计划调整及授予事项之独立财务顾问报告
2025-03-31 19:18
激励计划流程 - 2025年3月4日审议通过激励计划相关议案[11] - 3月5 - 14日对激励对象内部公示[12] - 3月21日股东大会审议通过激励计划相关议案[13] - 3月31日审议通过调整激励对象及授予限制性股票议案[14] 激励计划数据 - 激励对象由不超1072人调为1055人[15] - 授予数量126.7894万股,占股本总额0.45%[18] - 授予日为2025年3月31日[18] - 授予价格90元/股[19] - 有效期最长不超36个月[20] - 两归属期归属权益比例均为50%[21] 激励对象分配 - 董高技获授129,000股,占授予总数10.1744%[22] - 其他员工(1044人)获授1,138,894股,占89.8256%[22] - 全部激励对象(1055人)获授1,267,894股,占100%[22]
拓荆科技(688072) - 第二届监事会第十三次会议决议公告
2025-03-31 19:15
激励计划调整 - 2025年限制性股票激励对象由不超1072人调为1055人[3] - 调整因6人离职、11人有离职意向或绩效不佳[3] 激励计划授予 - 监事会同意向1055人授予126.7894万股限制性股票[7] - 授予日为2025年3月31日[7] 会议情况 - 第二届监事会第十三次会议3月31日书面传签召开[2] - 两议案表决均3票同意,无需股东大会审议[6][8]
拓荆科技(688072) - 监事会关于2025年限制性股票激励计划授予激励对象名单的核查意见
2025-03-31 19:15
激励计划调整 - 6名激励对象因离职不再符合资格,11名因离职意向或绩效不再作为激励对象[3] 激励计划授予 - 监事会同意授予1055名激励对象126.7894万股限制性股票[4] - 授予价格为90元/股[4] - 授予日为2025年3月31日[4]
拓荆科技(688072) - 第二届董事会第十四次会议决议公告
2025-03-31 19:15
会议信息 - 公司第二届董事会第十四次会议于2025年3月31日书面传签召开,9名董事参与表决[2] 激励计划 - 2025年限制性股票激励计划调整后激励对象为1055人,减少17人[3] - 授予日为2025年3月31日,授予价格90元/股[5] - 向1055名激励对象授予126.7894万股限制性股票[5] 议案表决 - 两项议案均7票同意,0票反对,0票弃权,2人回避表决[3][5]
拓荆科技申请背面沉积有非晶相碳膜的晶圆及其制备方法和应用专利,增加传统晶圆背面沉积薄膜的可选择性
金融界· 2025-03-29 13:46
文章核心观点 拓荆科技(上海)有限公司申请"背面沉积有非晶相碳膜的晶圆及其制备方法和应用"专利,该专利在半导体领域有增加传统晶圆背面沉积薄膜可选择性等优势,同时介绍了公司基本信息 [1][2] 公司信息 - 拓荆科技(上海)有限公司成立于2020年,位于上海市,以从事科技推广和应用服务业为主 [2] - 企业注册资本135253.79万人民币,实缴资本95253.78万人民币 [2] - 公司参与招投标项目19次,有商标信息1条,专利信息243条,拥有行政许可11个 [2] 专利信息 - 公司申请名为"背面沉积有非晶相碳膜的晶圆及其制备方法和应用"的专利,公开号CN 119694881 A,申请日期为2024年12月 [1] - 该专利属于半导体领域,可增加传统晶圆背面沉积薄膜的可选择性 [1] - 相同膜厚条件下,非晶相碳膜应力和翘曲与SiN相近,可实现对翘曲较大的工艺片或结构片的应力中和 [1] - 非晶相碳膜在高温下具有较好粘附力,可实现以上厚度的薄膜沉积 [1] - 晶圆背面沉积的SiN、SiO薄膜需通过(磷酸或氢氟酸)湿法去除,而非晶相碳膜可通过与等离子体激发下氧离子反应原位去除,副产物主要为二氧化碳 [1]
拓荆科技SEMICON China 2025新品发布会:三大产品系列引领半导体制造创新突破
证券时报网· 2025-03-26 22:40
文章核心观点 - 拓荆科技在SEMICON China 2025展会首日召开新品发布会,发布三大产品系列新品,展示技术突破与产业布局,为中国半导体设备行业注入新活力,开启崭新篇章 [3][9] 发布会概况 - 2025年3月26日拓荆科技在SEMICON China 2025展会首日召开主题为“拓芯章·见未来”的新品发布会,吸引数百名嘉宾到场 [3] 技术研发与产品策略 - 公司依托多年技术积累从 前道薄膜设备走向3D - IC设备,2024年反应腔出货量超1000台,2025年将保持高研发投入,持续产品升级,实现从“国产替代”向“技术引领”的战略升级 [5] 战略新品情况 - ALD事业部国内ALD设备装机量和薄膜工艺覆盖率第一,新一代原子层沉积设备VS - 300T在坪效比、成本、薄膜均匀性等方面有优势 [6] - 3D - IC和先进封装事业部在键合和相关产品布局上实现国产键合领域设备装机量及键合相关工艺覆盖率第一,发布低应力熔融键合设备Dione 300F等多款新品 [6] - CVD事业部应用能力获市场及客户肯定,研发集中在提升客户生产效率,2023 - 2024年出货10种新产品,推出新平台PF - 300M达成提高厚膜产能等目标 [6] 启幕仪式 - 董事长与三位事业部负责人共同揭开新品模型帷幕,LED大屏同步呈现动态技术演示,现场氛围达到高潮 [7]
拓荆科技(688072) - 关于公司2025年限制性股票激励计划内幕信息知情人买卖公司股票情况的自查报告
2025-03-21 20:04
激励计划 - 公司于2025年3月4日审议通过2025年限制性股票激励计划相关议案[1] 自查情况 - 自查期为2024年9月6日至2025年3月5日,核查对象为激励计划内幕信息知情人[2] - 11名核查对象自查期买卖股票,确认无内幕交易[5] - 策划激励计划限定人员范围,未发现内幕信息泄露及违规交易[6]
拓荆科技(688072) - 北京市中伦律师事务所关于拓荆科技股份有限公司2025年第二次临时股东大会的法律意见书
2025-03-21 20:00
会议信息 - 公司2025年第二次临时股东大会3月6日公告,3月21日14:00召开[3] - 现场会议在辽宁沈阳公司会议室召开,网络投票通过上交所系统进行[3] 参会情况 - 出席现场会议8名股东代表4260700股,占比1.5232%[6] - 网络投票170名股东代表132411386股,占比47.3356%[7] - 现场和网络投票共178名股东代表136672086股,占比48.8587%[7] 会议结果 - 审议通过《2025年限制性股票激励计划(草案)》等三项议案[9] - 会议召集、召开等均符合规定,决议合法有效[10]
拓荆科技(688072) - 2025年第二次临时股东大会决议公告
2025-03-21 20:00
股东大会信息 - 2025年3月21日在辽宁省沈阳市浑南区召开[3] - 178人出席,所持表决权占48.5847%[3] - 出席股东持股占48.8587%[3] 人员出席情况 - 9名董事、3名监事全部出席,董秘出席,高管列席[7] 议案表决结果 - 《2025年限制性股票激励计划(草案)》等三议案同意占比超99%[8][9] - 5%以下股东对三议案同意占比超96%[10]
拓荆科技(688072) - 2025年第二次临时股东大会会议资料
2025-03-14 18:45
会议安排 - 2025年3月21日14时召开会议,地点在辽宁沈阳公司会议室[10] - 股东及代理人13:00 - 14:00签到,发言不超5分钟[4][6] - 网络投票2025年3月21日,交易系统9:15 - 9:25等时段,互联网9:15 - 15:00[10] 激励计划 - 2025年3月4日董事会和监事会通过限制性股票激励计划相关议案[21] - 拟定《2025年限制性股票激励计划实施考核管理办法》并披露[24] - 董事会提请股东大会授权办理激励计划相关事项,期限与计划有效期一致[28][31]