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EUV光刻的大难题
半导体行业观察· 2025-06-22 11:23
高NA EUV光刻技术挑战 - 高数值孔径(0.55) EUV需通过电路拼接或改用6×11英寸掩模版解决曝光场缩小问题,后者需全面更换掩模制造基础设施 [1] - 高NA EUV的曝光场面积仅为传统193nm浸没式/EUV的一半(13平方毫米 vs 26平方毫米),导致吞吐量减半 [1] - 变形镜头设计使高NA系统在X/Y方向分别缩小4倍和8倍,进一步限制6×6英寸掩模版的可用曝光范围 [2] 拼接技术对良率的影响 - 掩模间套刻误差达2nm时,关键尺寸误差至少增加10% [2] - 缝合边界附近光刻胶线宽变异显著,接触孔可能出现重复或椭圆形缺陷 [5] - 黑色边框应力松弛导致多层结构扭曲,需保留未图案化空白区域,加剧边界对齐难度 [4][5] 设计优化方案 - 完全避开边界区域可使单核设计频率降低3%、功耗增加3% [7] - Synopsys提出拼接感知优化:逻辑块防分裂、I/O端口集群化、标准单元远离边界,将面积损失降至0.5%、性能影响降至0.2% [8] - 特定区域设计规则可改善边界特征打印质量,但需定制化标准单元尺寸 [8] 大尺寸掩模版替代方案 - 6×11英寸掩模版可消除拼接需求,ASML现有EUV平台支持6×11.2英寸尺寸 [10] - 但需改造14类掩模制造设备,部分设备成本翻倍,EUV掩模应力管理难度指数级上升 [10] - Mycronic计划2024年推出6×11英寸掩模写入器原型,1nm节点或成技术切入点 [10][11] 产能与成本权衡 - 高NA EUV场减半可能导致产能下降40%,场间扫描开销成主要成本因素 [9] - 大掩模版可避免高NA工具吞吐量下降,并提升现有0.33 NA设备效率 [11] - EUV光刻机成本已近4亿美元,光刻效率对晶圆厂成本影响远超掩模版本身 [11]
电子行业点评报告:为什么我们认为下半年要重视HBM产业链?
东吴证券· 2025-06-22 11:02
报告行业投资评级 - 增持(维持) [1] 报告的核心观点 - 算力需求爆发与外部对 HBM 在带宽等环节的管制,将刺激国产 HBM 的突破和供应 [5] - 测试机、键合解键合、CMP 环节弹性最大,国产 HBM 的突破将落在今年下半年,预期今年 HBM 扩产量级有望实现 5000 片的 8 层晶圆 [5] - 国产 HBM 扩产利好前道设备,对应 DRAM 扩产产生新增量,此次 HBM 扩产对应 4 万片的底层 DDR5 扩产,约 350 亿的设备资本开支增量 [5] - 设备环节推荐受益较多、订单弹性最大的精智达 [5] 根据相关目录分别进行总结 行业发展刺激因素 - 算力需求爆发,叠加外部对 HBM 在带宽等环节的管制,刺激国产 HBM 的突破和供应 [5] 国产 HBM 现状 - 国产存储大客户已具备 DDR5 颗粒制造能力,传输速率等核心指标达成,散热和能耗方面有提升空间,HBM3 的底层存储颗粒具备量产条件,部分设备公司拿到 HBM 相关订单,国产 HBM 扩产确定性快速加强 [5] 关键工序与扩产预期 - 各关键工序如 TCB、CMP、键合解键合、电镀、测试机均实现国产或较容易买到,国产 HBM 突破将在今年下半年,今年 HBM 扩产量级有望达 5000 片的 8 层晶圆 [5] 扩产带来的订单增量 - 扩产为 TCB、CMP、键合解键合、电镀、测试机(专指 HBM 专用 CP 测试机—KGSD)环节分别带来 1.6 亿、10 亿、6 亿、4 亿、7 亿的订单增量 [5] 前道设备受益情况 - HBM 扩产对应 4 万片的底层 DDR5 扩产,约 350 亿的设备资本开支增量,对刻蚀、薄膜沉积、清洗、CMP 等环节分别带来 85 亿、70 亿、16 亿、11 亿的市场增量,其余前道设备也将受益 [5] 投资建议 - 设备环节推荐精智达 [5]
天津金海通半导体设备股份有限公司关于2024年员工持股计划锁定期届满的提示性公告
上海证券报· 2025-06-21 03:31
员工持股计划实施情况 - 公司2024年员工持股计划锁定期于2025年6月20日届满,解锁比例为100%,涉及689,200股(占总股本1.15%)及85名持有人 [6][9] - 持股计划股票来源为回购专用账户非交易过户,过户日期为2024年6月20日,过户价格36.52元/股,总过户量689,200股 [3][6] - 期间因员工离职/调岗多次调整份额分配,累计收回45.8656万份(对应12.28万股),重新分配给44名参与对象(含7名高管获配2.11万股) [2][3][4][5] 业绩考核达成情况 - 公司层面2024年营业收入4.07亿元,同比增长17.12%,达成解锁条件要求的增长目标 [7] - 个人层面85名参与对象绩效考评均为"A"级,解锁比例100% [9] 持股计划后续安排 - 管理委员会将择机出售已解锁股票并向持有人分配收益,存续期剩余12个月(总存续期24个月) [9][11] - 交易限制包括定期报告公告前15日/5日等敏感期不得买卖股票 [9] - 存续期可经2/3份额持有人同意后延长,最长延至股票全部变现 [11][14] 公司治理程序 - 持股计划经董事会/监事会/股东大会审议通过,独立财务顾问及法律顾问出具意见 [1][2] - 薪酬委员会确认解锁条件合规,决策程序符合《管理办法》规定 [14]
中微公司: 关于2022、2023、2024年限制性股票激励计划归属结果暨股份上市的公告
证券之星· 2025-06-20 20:28
限制性股票激励计划归属结果 - 公司完成2022年、2023年、2024年限制性股票激励计划部分归属期的股份登记工作,涉及第三个、第二个和第一个归属期,登记日期为2025年6月18日 [1] - 本次归属股票数量为1,149,089股,涉及激励对象1,202人,股票来源为定向发行A股普通股 [11] - 归属股票将于2025年6月24日上市流通,上市类型为股权激励股份,认购方式为网下 [5] 限制性股票激励计划决策程序 2022年计划 - 2022年3月9日董事会审议通过激励计划草案及考核管理办法,独立董事发表意见 [1] - 2022年3月25日股东大会审议通过相关议案 [3] - 2023年3月31日董事会审议通过第一个归属期符合归属条件的议案 [4] - 2024年3月27日董事会审议通过第二个归属期符合归属条件的议案 [5] 2023年计划 - 2023年3月30日董事会审议通过激励计划草案及考核管理办法 [6] - 2023年4月20日股东大会审议通过相关议案 [6] - 2024年6月12日董事会审议通过第一个归属期符合归属条件的议案 [6] - 2025年5月28日董事会审议通过第二个归属期符合归属条件的议案 [6] 2024年计划 - 2024年3月27日董事会审议通过激励计划草案及考核管理办法 [6] - 2024年4月17日股东大会审议通过相关议案 [8] - 2025年4月17日董事会审议通过第一个归属期符合归属条件的议案 [9] 归属股份具体情况 - 2022年计划:1名其他激励对象归属0.3314万股,占已获授限制性股票的25% [9] - 2023年计划:1,202名激励对象归属114.0801万股,其中核心技术人员归属2.3079万股,其他激励对象归属111.7722万股,占比均为24.99%-25% [9] - 2024年计划:1名其他激励对象归属0.4974万股,占已获授限制性股票的25% [9] 股本变动及财务影响 - 归属后公司总股本由624,996,218股增加至626,145,307股 [12] - 以2025年第一季度归属于上市公司股东的净利润3.13亿元计算,归属后基本每股收益将摊薄 [12]
中微公司: 关于调整2024年年度利润分配现金分红总额的公告
证券之星· 2025-06-20 20:12
利润分配调整 - 公司2024年年度利润分配现金分红总额由186,080,23860元(含税)调整为187,214,71020元(含税)[1] - 调整原因是2022年、2023年、2024年限制性股票激励计划归属导致总股本从622,363,735股增至626,145,307股[1][2] - 公司维持每股分配比例不变(每10股派3元含税),按最新股本624,049,034股计算调整后分红总额[2] 股本变动细节 - 2025年4月23日完成2022年激励计划第三期归属,股本增至623,118,763股[1] - 2025年5月7日完成2024年激励计划第一期归属,股本增至624,996,218股[1] - 2025年6月18日完成2022年激励计划第三期及2023年激励计划归属,股本最终增至626,145,307股[2] 相关ETF数据 - 数字经济ETF(560800)跟踪中证数字经济主题指数,近五日下跌163%[5] - 该ETF最新市盈率为5655倍,估值分位处于7978%历史高位[5][6] - 最新份额101亿份,减少200万份,主力资金净流出1849万元[5]
中微公司: 2025年第二次临时股东大会会议资料
证券之星· 2025-06-20 19:16
股东大会安排 - 会议时间为2025年6月26日,采用现场投票与网络投票结合方式,网络投票通过上海证券交易所系统进行,交易时段为9:15-9:25/9:30-11:30/13:00-15:00,互联网投票时段为9:15-15:00 [4] - 参会股东需提前20分钟签到并出示证券账户卡、身份证明等文件,迟到者将失去现场表决权 [1][2] - 会议议程包括议案审议、股东发言(限时5分钟)、投票表决及结果公布等11项流程 [4][5] 私募投资基金设立 - 全资子公司中微临港拟联合智微资本等设立规模15亿元的私募基金,聚焦半导体及战略新兴领域,中微临港出资不超过7.35亿元(占比49%),智微资本出资1500万元(占比1%) [5] - 该交易构成关联交易,因中微临港持有智微资本45%股权且后者高管为公司董事会成员 [6] - 议案已通过公司第三届董事会第五次会议审议,需股东大会表决 [6] 数字经济ETF数据 - 跟踪中证数字经济主题指数的ETF(代码560800)近五日下跌1.63%,市盈率56.55倍 [9] - 最新份额10.1亿份,减少200万份,主力资金净流出184.9万元 [9] - 当前估值分位数为79.78% [10]
电子行业2025年中期投资策略:人工智能创新百花齐放,半导体自主可控加速推进
中原证券· 2025-06-20 19:02
报告核心观点 2025年上半年人工智能创新推进,半导体行业延续复苏趋势;下半年AI算力需求持续景气,推动半导体周期上行,半导体自主可控有望加速推进 [2] 分组1:DeepSeek引领国产大模型崛起,人工智能创新百花齐放 1.1 DeepSeek引领国产大模型崛起,大模型推动AI算力需求高速成长 - DeepSeek-V3性能对标OpenAI GPT - 4o,成本优势大,技术创新体现在采用混合专家架构等方面,助力AI应用落地 [16] - DeepSeek - R1提升推理能力,模型蒸馏技术推动AI应用加速落地,API调用成本低 [19][34] - 文心大模型4.5 Turbo多模态能力优、成本低,通义千问Qwen3模型性能具竞争力 [37][41] - 北美四大云厂商和国内三大互联网厂商加大资本开支,全球和中国算力规模高速增长 [43][48] - AI服务器是核心基础设施,大模型推动其出货量增长,AI算力芯片是算力基石 [50][56][58] - 当前AI算力芯片以GPU为主流,英伟达主导市场,GPU生态体系建立高壁垒 [69][75][79] - AI ASIC专为AI应用设计,与GPU各有优劣,云厂商自研推动定制ASIC芯片市场增长 [81][84][85] - DeepSeek推动推理需求释放,国产AI算力芯片或提升市场份额,AI服务器推动PCB量价齐升 [90][92] 1.2 端侧AI加速发展,终端创新百花齐放 - AI眼镜是端侧AI最佳硬件载体之一,拍照AI眼镜是主流形态,多款新品将推动出货量增长 [100][105][117] - 雷鸟在国内AI/AR眼镜市场领先,芯片占AI眼镜成本大部分,关注产业链核心环节投资机会 [122][123] - 比亚迪推动高阶智驾车型下沉,中国高阶智驾渗透率有望加速提升 [130][134] - 高阶智驾推动车载摄像头使用量提升、像素规格升级,CIS是智驾感知系统升级核心组件 [137][139] 分组2:半导体自主可控加速推进,存储器有望迎来新一轮上行周期 2.1 半导体产业链卡脖子核心环节自主可控需求迫切,国产替代有望加速推进 - 美日荷加大对中国半导体产业限制,卡脖子核心环节自主可控需求迫切 [36] - 半导体设备自主可控加速,关注国产化率低及具备突破先进制程能力的公司 [37] - 先进封装助力AI算力升级,美国限制高端AI算力芯片供应,国产厂商迎来发展期 [41][45] 2.2 存储器价格持续上涨,新一轮周期复苏或已至 - 海外存储器龙头厂商减少产出,2025年3 - 5月DRAM、NAND综合价格指数环比回升 [8][9] - 定制化存储是端侧AI内存解决方案趋势,国内存储模组厂商有望提升市场份额 [9] 分组3:投资建议 - 云侧AI算力芯片关注海光信息(688041),AI眼镜SoC关注恒玄科技(688608)等 [9]
*ST元成: 关于元成环境股份有限公司2024年年度报告的信息披露监管工作函中的有关问题的专项说明
证券之星· 2025-06-20 18:40
经营情况 - 2024年度公司实现营业收入1.46亿元,同比下降46.79%,扣非前后的净利润分别亏损3.25亿元、3.23亿元,同比亏损幅度加大 [1] - 工程施工及绿化养护、规划设计等主营业务毛利率分别为-27.94%、-14.27%,同比大幅下滑 [1] - 第四季度实现营收1.01亿元,占全年营收之比近7成,与往年季度变化趋势存在明显差异 [1] - 前五名客户销售额6648.21万元,占年度销售总额45.59%,其中关联方销售占比11.98% [1] 客户与供应商 - 工程施工及绿化养护前十大客户交易金额8670.19万元,回款7243.27万元 [2] - 电子设备及元器件前十大客户交易金额4689.43万元,回款2117.33万元 [2] - 工程施工及绿化养护前十大供应商采购金额3862.02万元 [2] - 电子设备及元器件前十大供应商采购金额722.67万元 [2] 收入确认 - 工程施工及绿化养护业务收入按履约进度产出法确认,依据为工程量确认单 [2] - 电子设备及元器件业务收入按商品控制权转移确认,依据为验收单 [2] - 公司与关联方浙江越龙山旅游开发有限公司的交易定价公允,符合市场平均水平 [3] 财务数据更正 - 更正后2024年第四季度营业收入占全年收入的29.80%,比重未大幅增长 [4] - 更正后第四季度归属于上市公司股东的净利润为-2.42亿元,扣非后净利润为-2.62亿元 [4] - 更正不涉及对公司财务报表的调整,不会对2024年经营业绩造成影响 [4] 行业对比 - 同行业可比公司2024年平均毛利率下降14.99个百分点,公司下降18.31个百分点,与行业趋势一致 [5] - 工程施工及养护、规划设计毛利率下降主要因行业市场行情差、政府及开发商资金收紧 [5] - 公司2024年主营业务板块中工程施工及养护占比53.32%,毛利率-27.94%;电子设备及元器件占比38.65%,毛利率24.20% [5] 应收账款与减值 - 应收账款期末账面价值9.13亿元,计提坏账准备2.36亿元 [8] - 对浙江越龙山旅游度假有限公司应收账款计提坏账准备5465万元 [8] - 商誉账面价值7064.33万元,本期计提减值准备5127.88万元 [8] - 对子公司硅密电子计提商誉减值1274.06万元 [8] 商誉减值 - 硅密电子2024年商誉减值测试采用公允价值减处置费用方法,因公司拟不再持有其股权 [15] - 长沙吉佳城市设计公司商誉减值因行业不景气,2024年收入骤降至279.04万元 [20] - 杭州元成规划设计集团商誉减值因2024年收入下滑至503.12万元,净利润连续多年亏损 [24] - 公司对硅密电子前期并购估值合理,决策审慎,基于当时行业前景和公司发展战略 [27]
EUV光刻迎来大难题
半导体芯闻· 2025-06-20 18:02
高NA EUV光刻技术挑战 - 高NA EUV光刻技术面临电路拼接或掩模版尺寸增大的选择 拼接电路需要精确对准 而改用6×11英寸掩模版可消除拼接但需更换大部分掩模制造基础设施 [2] - 高NA EUV的变形镜头将标准6×6英寸光罩曝光范围减半 导致吞吐量下降50% 需两次曝光拼接图案 [2][3] - 2nm掩模间套刻误差会导致图案关键尺寸至少10%误差 良率面临严峻挑战 [3] 拼接技术对良率的影响 - 拼接边界附近光刻胶线宽会变化 接触孔可能出现重复或椭圆形 边界区域需避免放置关键特征 [6] - 黑色边框与未图案化空白区域导致应力松弛 扭曲邻近多层结构 影响空间图像质量 [6] - 辅助特征需精心放置以防相互干扰 跨越边界的晶圆特征需考虑线端重叠与边界相互作用 [5] 拼接感知设计优化 - 完全排除边界区域电路特征可避免问题 但会导致线路绕行 增加3%功耗并降低3%最大频率 [8] - 优化措施包括防止逻辑块分裂 集群化I/O端口 避免边界附近放置标准单元 使拼接面积损失<0.5% 性能下降约0.2% [9] - 特定区域设计规则可改善边界特征打印 但会破坏整体设计一致性 [9] 大尺寸掩模版方案 - 6×11英寸掩模版可解决拼接和吞吐量问题 ASML现有EUV平台可支持该尺寸无需改动光学元件 [11] - 掩模尺寸增大将影响14类设备 部分设备成本可能翻倍 但能避免高NA工具生产效率下降 [11][12] - EUV掩模版面积翻倍加剧应力管理和缺陷控制挑战 但可提升现有0.33 NA光刻机效率 [12] - 1nm技术节点可能是引入大尺寸掩模版的合适时机 因多数设备需升级 [12]
两大半导体设备巨头,再次投资印度
半导体芯闻· 2025-06-20 18:02
应用材料公司在印度的投资计划 - 公司计划在班加罗尔建设芯片制造设备研发中心,未来有望吸引超过20亿美元投资 [1] - 未来四年内将向该设施投资4亿美元 [1] - 该中心命名为"半导体制造创新中心(ICSM)",旨在创造高科技机会并加速半导体创新 [1] - 研发中心占地10英亩,总投资4851亿卢比,预计创造1500个就业岗位 [2] - 该中心将成为印度首个此类R&D晶圆厂,推动下一代芯片与显示技术创新 [2] 泛林集团在印度的投资计划 - 公司将在卡纳塔克邦设立两个单位:先进研发实验室(投资679亿卢比)和半导体硅元件制造工厂(投资911亿卢比) [1] - 两个项目合计创造1400个就业岗位,提供2nm技术与硅锭生产能力 [1] - 公司在印度已深耕25年,持续评估全球关键地区的业务扩展机会 [2] 半导体制造创新中心(ICSM)的运作模式 - 中心将汇聚工程师、供应商与学术机构共同开发下一代制造技术 [2] - 设立学术合作计划,与印度理工学院(IITs)等顶尖机构合作解决高价值半导体难题 [2] - 提供真实晶圆厂环境测试设备子系统,缩短研发周期并加速产品上市 [2] - 将为印度及全球提供完整的产品开发能力 [2] 其他半导体相关投资 - 应用材料公司去年3月在印度成立的"验证中心"已实现300mm晶圆工艺验证能力,为印度私营企业首次实现 [3] - Bharat Semi Systems公司将在迈索尔建立集成设计制造(IDM)半导体工厂,总投资2342亿卢比 [4] - 该项目聚焦碳化硅和氮化镓等复合半导体,创造620个就业岗位 [4]