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更大的光罩,要来了?
半导体行业观察· 2025-06-29 09:51
High NA EUV光刻技术挑战 - 高数值孔径(0.55)EUV技术面临电路拼接难题,需采用6×6英寸掩模版拼接或改用6×11英寸掩模版[1] - High NA EUV的曝光场面积缩小至193nm浸没式/EUV光刻的一半(13平方毫米 vs 26平方毫米),导致吞吐量减半[1] - 变形镜头解决方案在X/Y方向分别缩小4倍/8倍,进一步限制了曝光范围[2] 拼接技术对良率的影响 - 掩模间套刻误差2nm会导致关键尺寸误差≥10%[2] - 边界区域光刻胶线宽变异可达10%-20%,接触孔可能出现重复或椭圆形缺陷[4] - 黑色边框设计导致应力松弛,扭曲相邻多层结构,需保留未图案化空白区域[3] 设计优化方案 - 完全避开边界区域可使单核设计频率降低3%,功耗增加3%[5] - 采用拼接感知设计优化后,面积损失<0.5%,性能下降约0.2%[6] - 关键优化包括防止逻辑块分裂、集群化I/O端口、避免边界附近放置标准单元[6] 大尺寸掩模版替代方案 - 6×11英寸掩模版需改造14类设备,部分设备成本可能翻倍[9] - 面积翻倍加剧EUV掩模版的应力管理和缺陷控制挑战[10] - ASML现有EUV平台可支持6×11.2英寸掩模版,无需改动光学元件[9] 行业技术经济性考量 - High NA EUV工具成本近4亿美元,生产效率是晶圆厂成本效率的关键[10] - 1nm技术节点可能是大尺寸掩模版的潜在应用时点[11] - 更大掩模版可提升现有0.33 NA光刻机效率,受益范围超出尖端应用[11]
晶圆厂,有急单
半导体行业观察· 2025-06-29 09:51
公司业绩与展望 - 公司预计下半年以美元计算的营收将实现温和同比增长,全年呈现健康成长态势 [1] - 2024年5月合并营收35.50亿元新台币,环比下降3.38%,同比下降0.56%,但前五月累计营收191.74亿元新台币,同比增长15.57% [1] - 第一季度税后纯益24.14亿元新台币,环比增长30.7%,同比增长89.8%,创近九季新高,EPS达1.30元新台币(去年同期0.77元) [1] - 汽车、工业和消费电子领域出现急单,客户订单积极性提升,汽车电子库存已恢复正常水位 [2] 汇率与成本管理 - 新台币兑美元年初升值12.34%,但公司通过有效避险措施将汇兑损失控制在极低水平 [1][2] 新加坡12吋厂进展 - 与恩智浦合资的VSMC新加坡12吋厂总投资78亿美元,公司持股60%并主导运营,计划2027年Q1量产,进度可能超前 [1][3] - 6月初完成上梁,Q4开始设备移入,2026年下半年产出客户样品,客户对新加坡厂兴趣显著 [3][4] - 人才招募顺利,员工已基本到位,团队包含新加坡本地、台湾及全球9个地区的人才 [4] 行业环境与客户动态 - 对等关税政策影响钝化,客户提前备货行为缓解不确定性,半导体行业2025年预计回归季节性温和增长 [2] - 地缘政治因素促使客户对新加坡产能关注度提升,合作洽谈活跃 [4] 员工激励措施 - 向2023年12月31日前入职的员工发放1万至3.5万元新台币辛勤奖金,覆盖基层员工至副理级别 [4]
黄仁勋跃升全球第9大富豪
半导体行业观察· 2025-06-29 09:51
公众号记得加星标⭐️,第一时间看推送不会错过。 来源:内容 编译自 businessinsider 。 英伟达 (Nvidia) 2024 年的辉煌业绩对其首席执行官黄仁勋 (Jensen Huang) 来说无疑是利好消息。 英伟达在 2024 年的盈利表现强劲,公司股价今年大幅上涨,在 6 月份创下历史新高,并重回全球市 值最高公司的宝座。 黄仁勋于 1993 年与他人共同创立了英伟达,并一直担任总裁兼首席执行官。随着英伟达市值的上 升,他的净资产也随之飙升。 2024 年,他首次跻身《福布斯》十大富豪榜。根据榜单显示,他目前的净资产约为 1060 亿美元。 如今,黄仁勋领导着"七大豪门"之一,他的第一份工作是在丹尼餐厅 (Denny's) 洗碗和清洁厕所,如 今他已经取得了长足的进步。 以下是黄仁勋如何积累和运用他的财富: 黄仁勋是如何成为亿万富翁的? 根据一份股东委托书,截至2024年3月,黄仁勋持有公司约3.79%的流通股。他是公司最大的个人股 东。 在创办英伟达之前,黄仁勋曾在计算机芯片制造商LSI Logic和半导体公司AMD工作,后者目前由他 的远房表亲苏姿丰掌舵。 他是彭博亿万富翁指数中约15 ...
3D芯片的挑战
半导体行业观察· 2025-06-29 09:51
公众号记得加星标⭐️,第一时间看推送不会错过。 来源:内容 编译自西门子 。 3D IC 技术是指将多个硅片或晶圆以垂直堆叠的方式集成,从而形成一个可作为单个器件运行的三维 结构。与传统的二维集成电路(将元件分布在平面上)不同,3D IC 利用垂直方向的空间来堆叠和互 连多层有源电子元件。这种先进的方法显著缩短了元件之间的物理距离,从而提高了性能,降低了功 耗,并缩小了尺寸。 3D IC 的基本架构依赖于几项关键技术创新: 3D集成的演变 半导体行业迈向 3D 集成的进程反映了追求更高性能和更强大功能的自然进程。传统的 2D 集成虽然 已经成功了几十年,但随着对更复杂、更强大的电子系统的需求不断增长,开始显露出局限性。这导 致了中间解决方案的发展,例如 2.5D 集成,即将多个芯片并排放置在中介层上。 先进的基板集成工具 促成了这一发展,支持日益复杂的集成方法。从二维到三维集成的转变标志着 制造工艺、材料科学和设计方法的显著改进。 这一演变过程中的关键里程碑包括: 市场格局和行业趋势 全球 3D IC 市场正经历前所未有的增长,这得益于多个领域日益增长的需求。持续的技术进步以及 各种应用对更复杂电子系统的需求 ...
印度芯片,想多了!
半导体行业观察· 2025-06-29 09:51
台湾光罩子公司群丰破产案 - 台湾光罩旗下子公司群丰因消费电子市场竞争剧烈、亏损扩大,已向法院声请宣告破产 [3][4] - 群丰主营业务为封测和系统级封装(SiP),但调整后效益有限,亏损持续扩大 [4][5] - 光罩本业为半导体前段制程用光罩,占比达90%,客户主要为大中华区中小型IC设计公司 [4] 印度半导体合作项目 - 群丰曾与印度Kaynes Semicon签订550万美元技转协议,协助建立封测能力 [5] - Kaynes Semicon计划投资285亿卢比(约3.4亿美元)建封测厂,8.3亿卢比建矽光子研发设施 [5] - 合作最终破局,因Kaynes Semicon未履行协议承诺条件 [6] 印度半导体发展现状 - 鸿海2022年与Vedanta合作半导体项目,后因补助未获批和策略分歧退出 [8] - 鸿海2024年与HCL集团合作建IC封测厂,获印度政府批准 [8] - 力积电与塔塔集团合作建12吋晶圆厂,预计带来200亿新台币以上获利 [8] - 力积电2025年Q1将认列16.8亿新台币技转授权金和服务费 [8] 台厂对印度半导体态度 - 力积电董事长表示台厂对印度设厂疑虑多,大厂不愿前往 [10] - 力积电参与印度项目是因台湾高层请托,仅承担建厂和技术转移角色 [11] - 印度曾力邀台积电、联电、世界先进等半导体大厂,均遭婉拒 [11] 行业警示 - 供应链业者指出印度半导体自主计划进度缓慢,合作投资案质量参差不齐 [8] - 群丰案例显示印度半导体发展面临高门槛和难度 [6][11]
在太空制造芯片,更进一步
半导体行业观察· 2025-06-29 09:51
太空半导体制造 - 英国初创公司Space Forge成功发射ForgeStar-1卫星,成为英国首颗太空制造卫星,旨在利用太空环境生产半导体 [1] - 卫星在威尔士卡迪夫设计和制造,通过SpaceX Transporter-14拼车任务发射升空,此前等待美国政府批准长达4个月 [1] - 太空制造利用外太空和低地球轨道的独特条件(无限真空、零下温度)实现地球无法完成的半导体生产方法 [1] - 目标产品包括数据中心、量子和军事用途的半导体,采用"太空衍生晶体种子"启动生长,芯片最终返回地球封装 [1] 技术验证与未来规划 - ForgeStar-1为概念验证卫星,不返回货物,重点测试Pridwen隔热罩、在轨控制及故障安全解体机制 [2] - 2022年路线图显示,后续ForgeStar-2将实现安全返回地球并生产足量芯片,确保经济可行性 [2] - 公司计划每年建造10-12颗可重复使用卫星,任务周期1-6个月,最终目标年发射超100颗卫星 [2] 行业影响 - 太空制造可能开启材料科学和工业能力新时代,尤其推动先进计算组件(如AI、量子计算相关芯片)发展 [1][2] - 技术若成熟,将降低对地球制造环境的依赖,但现阶段仍处于原型验证阶段 [1][2]
一种新型的超大规模光电混合存算方案
半导体行业观察· 2025-06-29 09:51
核心观点 - 新加坡国立大学团队提出新型2T1M光电混合存算阵列架构 通过光学位元线规避传统电位元线的IR损耗与电容负载问题 实现3750kb阵列规模 在Transformer模型上达到93.3%推理精度 超越传统CIM设计的48.3% 能效提升超3倍达167 TOPS/W [1][7][9] 架构设计与工作原理 - 2T1M架构结合电子与光子技术优势 每个存储单元由两个晶体管和一个调制器组成 采用FeFET执行乘法运算 亚阈值区域展现亚pA级截止电流 保持特性达10年 循环次数超10^7次 [2] - 相比传统RRAM FeFET具有更低截止电流 显著降低静态功耗 在±3V、100μs条件下保持稳定性能 [2] 光电转换与无损求和 - 采用铌酸锂调制器实现电光转换 利用Pockels效应改变折射率 通过MZI单臂集成实现相位偏移累加 完成向量矩阵乘法的无损求和 [4][6] - 铌酸锂波导传播损耗仅0.28dB/cm 光信号传输近乎无损 相位求和方式避免IR压降导致的误差积累 [6] Transformer应用性能 - 在ALBERT模型30000×128词嵌入层中 2T1M架构推理精度达93.3% 与GPU持平 传统CIM架构仅48.3% [9] - 阵列规模达3750kb 为传统CIM架构150倍 功耗效率164TOPS/W 比传统方案提升37倍 [9] - 通过消除矩阵分解和重复外围电路需求 能效提升至167 TOPS/W [1][9] 技术参数对比 - 2T1M架构采用FeFET亚阈值技术 关断电流低至10^-12A 阵列规模30000×128 电压降为0 传统方案需100-300子阵列才能达到同等精度 [12] - 峰值能效164TOPS/W 显著高于对比方案的9.81-13700TOPS/W [12]
一家芯片公司,猛攻英伟达护城河
半导体行业观察· 2025-06-29 09:51
核心观点 - 在AI数据中心快速发展的2024年,Arista Networks凭借其创新的以太网网络解决方案,成为英伟达在AI网络领域的主要竞争对手 [2][25] - Arista从2004年创立之初就专注于为云计算打造简洁、软件驱动的网络系统,这一战略使其在数据中心市场获得成功 [5][6][12] - 随着AI工作负载对网络需求的激增,Arista通过推出高速交换机和优化网络架构,抓住了AI数据中心建设的机遇 [19][20][23] - 尽管面临英伟达等强大对手的竞争,Arista仍在数据中心以太网交换机市场保持领先地位,2025年Q1市场份额达21.3% [26][27] 公司发展历程 - 2004年由Andy Bechtolsheim、David Cheriton和Kenneth Duda联合创立,最初名为Arastra,后更名为Arista Networks [5][12] - 2008年Jayshree Ullal加入并担任CEO,推动公司专注于云计算数据中心市场 [8][9][11] - 2014年成功IPO,首日股价上涨72%,市值达46亿美元 [15] - 2014-2020年收入从5.84亿美元增长至23.2亿美元,年复合增长率25% [16] 技术创新与产品 - 采用"白盒"交换机设计理念,将网络操作系统EOS与硬件分离,提供高度灵活性和可编程性 [13] - EOS操作系统基于Linux内核,支持网络虚拟化和丰富API接口,满足云服务商的定制需求 [13] - 针对AI工作负载推出Etherlink交换机系列,支持400Gbps和800Gbps高速网络,优化大型AI集群性能 [20] - 正在投资1.6T LPO技术以降低AI集群功耗,并探索DPU开发或收购以增强网络卸载能力 [24] 市场表现与竞争格局 - 2025年Q1数据中心以太网交换机销售额达14.8亿美元,市场份额21.3%,同比增长26.4% [23][27] - 赢得Meta等超大规模客户的AI网络试点合同,预计2025年进入全面部署阶段 [21] - 英伟达凭借Spectrum-X解决方案快速崛起,2025年Q1市场份额达21.1%,销售额14.6亿美元 [26][28] - 思科在数据中心市场排名第三,2025年Q1收入12.5亿美元,同比增长17.7% [28] 行业趋势与机遇 - AI训练和推理需求推动数据中心网络投入激增,2025年Q1数据中心以太网销售额69.2亿美元,占比59.1% [27] - 800Gb/s以太网设备首次被统计,2025年Q1销售额3.501亿美元,占市场5.1% [27] - 企业用户正从10G/40G升级至100G/200G/400G网络,推动园区交换机与服务业务增长 [23] - AI基础设施的网络竞争已从带宽与端口的比拼转向生态、战略与系统思维的全面碰撞 [29]
微软自研芯片,凉了?
半导体行业观察· 2025-06-28 10:21
微软自研AI芯片延迟及性能问题 - 微软首款自研AI芯片"Braga"已推迟至少6个月,大规模量产顺延至2025年,原计划2024年部署[1] - 该芯片预计2026年发布时性能将远不及英伟达Blackwell芯片,研发耗时超预期导致竞争力下降[1][3] - 延迟原因包括未预料的设计变更、人员紧张及高离职率(部分团队流失20%成员)[1][3] 微软芯片研发历史与现状 - 公司自2019年开始研发AI芯片,2023年发布的Maia 100(128核Arm CPU)仅用于内部测试,未实际支持AI服务[2] - Maia 100设计定位过时,专注于图像处理而非生成式AI/LLM,早于ChatGPT引发的技术变革[2] - 目前秘密研发三款芯片:Braga(2025)、Braga-R(2026)、Clea(2027),均面向推理场景[3] - 原计划2024年推出的训练专用芯片已被取消[3] 行业竞争格局与英伟达态度 - 微软/谷歌/亚马逊等科技巨头研发自研芯片以减少对英伟达依赖,但英伟达CEO黄仁勋质疑其必要性[2] - 黄仁勋认为多数自研ASIC性能不及商用产品,微软延迟案例可能印证其观点[2] - 微软需等到2027年Clea芯片才可能抗衡英伟达,但届时英伟达或已实现新突破[3] 技术挑战与项目风险 - OpenAI要求新增功能导致Braga芯片模拟测试不稳定,使进度倒退数月[3] - 尽管设计问题导致延迟,微软仍未调整原定发布日期,团队承受高压[3] - 芯片定位与AI技术发展脱节,Maia系列需迭代至Clea才具备竞争力[2][3]
报名中 | 2025 Rambus 北京设计研讨会
半导体行业观察· 2025-06-28 10:21
行业背景与公司定位 - 半导体行业面临数据传输速度和安全性挑战 人工智能 联网车辆 5G和物联网的爆发式增长推动高性能计算和低功耗芯片需求激增 内存带宽与数据处理安全性成为瓶颈 [1] - 接口IP和安全IP技术是行业突破的核心驱动力 直接影响芯片效能 兼容性及抗攻击能力 [1] - Rambus是接口IP和安全IP领域的先驱 成立于1990年 其高速接口技术重新定义内存与系统间数据传输标准 [1] 公司技术与产品优势 - Rambus的DDR内存接口 HBM3/4和PCIe 5/6解决方案显著提升数据中心 边缘计算等场景的性能上限 [1] - 安全IP解决方案包括信任根技术 安全协议引擎 内联密码引擎 后量子密码算法加速器核等 应对复杂网络安全威胁 [1] - 丰富的安全和接口IP解决方案构建强大产品组合 [1] 技术研讨会核心内容 - 会议聚焦AI和汽车两大方向 展示最新接口和安全IP解决方案 包括量子安全加密 信任根 HBM4 GDDR7 PCIe 6.1/7.0 CXL3.1 MIPI等技术 [6] - 上午议程涵盖AI和下一代应用的硅IP 包括内存选择(HBM GDDR LPDDR) PCIe和CXL互连技术 以太网IP布局 MIPI CSI-2传感器技术等 [8][9] - 下午议程深入汽车安全解决方案 探讨智慧联网汽车硬件软件设计趋势 生态系统合作 安全规范 评估方法等 [7][10][11] 会议具体议程 - 上午会议8:30-12:30 包含6场技术演讲 主题涵盖AI训练推理内存选择 PCIe/CXL互连技术 以太网IP布局 自动驾驶传感器技术等 [9] - 下午会议13:30-17:30 包含6场汽车安全专题演讲 内容涉及芯片安全测试 网络安全规范 合规性方法 车规级芯片评估体系等 [11] - 会议提供茶歇和午餐 需提前注册 [4][11] 行业合作伙伴 - 会议汇集多家行业合作伙伴 包括M31 晶心科技 Brightsight ETAS DPLSLab CoMIRA Riscure等机构的技术专家 [2][11]